Dimension Automated AFP 仪器特性

  • AFM的高分辨率与AFP的宽测量范围完美结合
  • 最高测量效率
  • 在线STI, W, Cu CMP测量,无可匹敌的测量重复性
  • 取代传统的高成本、破坏性的横断面测量技术,把刻蚀测量周期从几天缩短到几分钟
  • 独有的TappingMode™模式,无损地实现高深宽比测量


    • CMP 过程检测(CU, W, STI 绝缘体, 聚合物)
    • 业界领先的CMP 和蚀刻深度测量,精度高,重复性好
    • 单一平台上可实现表面轮廓和高深宽比沟槽的精准测量
    • 广泛应用于半导体、数据存储和LED领域

    Deep Trench (DT) Mode is an AFM mode developed specifically for the repeatable measurement of deep semiconductor trench structures for 90 nm and below. It is an adaptive scan method in which data is only collected when user-specified system state conditions