X-ray Metrology, wafer

使用 X 射线分析薄膜

X 射线计量学主要关乎使用 X 射线分析薄膜,无论是确定(多)层的厚度和构成、密度和粗糙度,还是确定外延生长膜的晶格参数和应变度。可通过应用数种互补技术来获取您正在寻求的数据。

是否有兴趣进一步了解有关 X 射线计量学技术的信息?以下链接信息介绍了通过 X 射线描述薄膜特性的最重要方法(如 HRXRD、µ-XRF 和 XRR)。