X-ray Metrology, wafer

微聚焦 X 射线荧光分析 (µ-XRF)

技术

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它基本等同于“传统”XRF 技术。元素的荧光放射强度是此元素原子数的测度。在限制厚度(取决于数个参数,如元素、辐射光束、密度和基体)的情况下,强度是层厚度和浓度的测度。除去此限制厚度的影响,强度与浓度 – 线性 – 相关。传统的 XRF 在大多数情况下探测无限厚大块样品。因此,它是一项分析元素浓度的技术。

X 射线计量学 射线计量学的客户通常拥有薄层样品(晶圆、太阳能电池),其厚度低于饱和厚度。此种情况下,XRF 用于分析各膜层的化学构成和/或厚度。通常需要小尺寸光束,使用准直仪或毛细管透镜即可获取此光束。使用能量色散硅漂移探测器 (SDD) 探测荧光放射。

使用的软件以基本参数为依据。它将实验设置、基体效应、吸收及通过邻近原子进行二次增强考虑在内,因此只需一个标准校准系统以获取定量结果。 XRR 与 XRF 技术相互补充。