X-ray Metrology, wafer

X 射线反射 (XRR)

技术

Beam Path Slit Slit, X-ray Metrology
XRR experiment

图片显示了 XRR 实验的典型设置。可使用单色仪和晶体分析仪、及索拉狭缝和刀锋准直仪调整配置,优化与样品相匹配的测量条件。

亦称为 X 射线反射法。这是一项非接触式无损分析技术,用于确定薄膜的厚度、密度、粗糙度和填隙粗糙度。X 射线以低角度辐射到样品上时,样品表面可实现 X 射线全反射。随着辐射逐渐上升超过特定角度(称为临界角,视乎材料而定),X 射线从样品界面反射,并产生干涉条纹。干涉条纹频率与膜的厚度成比例,强度减弱与膜的粗糙度成比例,干涉条纹振幅与顶层及底层的密度成比例。XRR 是采用绝对零度标定法的测量技术,以第一原理为基础。XRR 与 XRF 技术相互补充。

D8 FABLINE – 超薄二氧化铪薄膜的 X 射线反射研究
(PDF 应用报告)