材料型原子力显微镜
帮助科学家发现、研究和理解材料科学领域的前沿课题
产品
高分辨率 AFM用于具有挑战性的前沿研究
随着原子力显微镜(AFM)进入第四个十年发展，作为支持先进材料研究的主要技术，其高分辨率数据已经推动了无数学科和应用领域的新发现。自20世纪80年代引入第一个商业原子力显微镜系统以来，布鲁克一直引领着AFM设备的性能扩展。 随着技术的成熟，AFM为科学家提供了在日益复杂的样品上进行物理化学性质测试的可能，而不仅仅是形貌表征。我们想要帮助您更轻松地使用设备并取得更多的成果。这使得布鲁克 AFM 在仪器创新领域一直保持在前沿位置。比如，由布鲁克AFM独家提供的峰值力轻敲技术®正在以每天三篇同行评审发表的论文的速度，帮助研究人员推进新的纳米力学、纳米电学和纳米电化学研究。
AFM 模式
用AFM拓展您的应用
凭借一整套出色的AFM成像模式，布鲁克能为您每项研究提供适用的 AFM 技术。
基于核心成像模式（接触模式和轻敲模式），布鲁克提供的全套 AFM测试模式，允许用户探测样品的电学、磁性等丰富性能。布鲁克独创的全新的峰值力轻敲技术作为一种新的核心成像模式，已被应用到多种测量模式中，能同时提供形貌、电学和力学性能数据。
应用
应用程序库
闭环，在攻丝模式中的句法波丙烯，5μm。
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一夫聚丙烯结晶动力学调查。原始聚合物在160°C下从室温（左）快速加热至完全熔化状态。 128°C 下高温等温结晶促进了条件的平衡，并形成比原始层状晶体更大的晶体。右图显示 101 分钟的部分结晶。
在 HOPG 上 C36H74 阿尔坎的图像。与完全扩展的构象 C36H74 链条长度一致的间距（±4.5nm）清晰可见。
使用TR-TUNA，1μm将单壁碳纳米管松散地连接到Au-pattern硅上的地形和电导率图。
使用峰值力 QNM （PFQNM） 在液体中成像的钙化物晶格中的原子缺陷。贝德·皮滕格博士获得的数据
在细腻的分子层上，TappingMode 图像展示了甲醇自组装的分子结构。三幅图像显示间距为 5nm 的 0.5nm 步长和鱼骨图案，以及 0.5nm 分子间距（小图像刻度条 3nm）。行的长度尺度表明有序的甲醇分子在不同的角度倾斜。250nm 扫描的垂直刻度为 1nm。贝德·皮滕格博士获得的图像
此 PeakForce 攻丝铝硅酸盐玻璃图像显示了空气中工业样品的最高分辨率。保持尖端锐度是关键。后续扫描的盲尖重建显示尖端端半径约为 1nm，表明此具有挑战性的样品的尖端磨损可以忽略不计。全图像扫描大小 5um，5000x5000 像素。峰值力设定点 600pN，FastScan B 探头。胡水清博士获得的图片。
HOPG 上以 TUNA 模式制作的此当前地图演示了间距为 0.25nm 的"格子分辨率"。传统上，STM 是在当前地图中实现此类分辨率所需的。峰值力 TUNA 应用模块，PF-TUNA 探头，60pA 电流范围。0.5nm 高分辨率图像上的刻度栏。图片由哈特穆特·斯塔德勒获得，博士
DCUBE-PFM 测量清楚地显示 BiFeO3 薄膜上每个离散像素的域在不同电位水平翻转。
使用 XR 纳米机械检测空间分辨率低至聚合物链子分子单元的最小结构。iPMMA 附着力图像。
3D 曲面通过损耗模量表示具有假着色的样本地形。蓝色区域具有较高的损耗模量，红色区域与PS矩阵和PMMA内含物对应的损耗模数较低。通过布鲁克的 FASTForce 体积纳米力学模式产生接触谐振产生的模量图。5μm 扫描，± 590kHz，256x256 像素。
PeakForce QNM 模模在六角氮化铀上的石墨烯图像，揭示了与高度局部应变缓解对齐后向相应晶格的过渡。另见自然物理 10， 451+456 （2014）.
语法聚丙烯域（紫罗兰色）被PMMA（青色）矩阵包围。用模量绘制的地形数据，便于识别部件，揭示通过PMMA矩阵传播的合成聚丙烯形成的层压。图像大小 8 μm。
垂直站立碳纳米管上的当前成像。只有峰值力 TUNA 才可能。
使用峰值力-HR 成像的聚合物刷结构。扫描尺寸 1 μm 在 5 Hz. 样本由 S. Sheiko， 北卡罗来纳大学教堂山.
使用3V偏置的聚（3-六基乙基苯）（P3HT）有机导电纳米线的峰力TUNA电流图。图像显示 3 μm 扫描区域，其中电流从 0 到 80 pA 变化。
语法聚丙烯 （sPP） 和聚乙烯氧化物 （PEO） 与 PeakForce-HR （5 Hz 时为 3 μm） 混合。
此模数图像显示了 ULDPE 连接层与横截面包装材料的 PS/LDPE 密封层之间的微妙过渡。以高空间分辨率映射模组，可显示带层中的拉梅拉充当穿透密封剂的成核点，并在界面 1 μm 内增加层压。图像大小 3 μm。
高度 （A） 和电流 （B） 垂直碳纳米管地毯的地图，通过 PeakForce TUNA 获得，无法使用接触模式进行成像。图像大小 1 μm。
使用峰值力攻丝成像的MM8（15纳米扫描）上云母基材的原子分辨率高度和附着力。
使用峰值力 QNM 成像的聚二基硅氧烷 （PDES） 模组贴图。图像显示 3 μm 扫描区域，其中模量从 1.5 到 15 MPa 变化。
克带测试结构的闭环地形图，显示双达场景沟内接触孔。尺寸扫描仪和布鲁克 FIB 探头的组合使此具有挑战性的几何图形的映射能够而不会损坏探头尖端。
使用暗升 SCM 对 SRAM 样品进行精确的 2D 点面分析。图像大小 15μm。
在以液体成像的云母上，折纸DNA的单个三角形自组装揭示了连接点的单个链和精细结构。250 nm 闭环图像。样本由加州理工学院的 P. 罗瑟蒙德提供。
扫描硅 DRAM 电池的电容数据。dC/dV 测量提供的 2D dopant 配置文件允许对器件缺陷进行可视化并提取关键参数，如栅极长度。此图像是在 SCM/暗升模式下获得的，可确保准确且无伪影的点面映射。25 μm 闭环图像。
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