D8-FABLINE, X-ray metrology solution
Reciprocal space map, X-ray Metrology

Dicke, Dehnung und Zusammensetzung von Epitaxialschichten (HRXRD)

HRXRD ist das Mittel der Wahl, um die Dicke, die kristallographische Struktur, die Zusammensetzung und den Dehnungs-/Entspannungsgrad dünner epitaktisch gewachsener Schichten auf Substraten wie SiGe auf Bulk-Si oder Si auf Isolator (SOI), SiC, GaN, III-V-Verbindungshalbleitern zu bestimmen.

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XXR map thin film, X-ray Metrology

Dicke, Rauigkeit und Dichte von Dünnschichten (XRR)

Mithilfe von Röntgenreflektometrie kann die Schichtdicke, die Schichtdichte und die Ober- oder Grenzflächenrauigkeit von ultradünnen Gate-Oxiden, High-k- und Low-k-Dünnschichten, Silizid- und Polycidschichten sowie Barriere- und Metallschichten analysiert werden.

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µ-XRF, Thickness, X-ray Metrology

Zusammensetzung und Dicke von Metallschichten (µ-XRF)

Mikro-Röntgenfluoreszenz (µXRF) ermöglicht chemische Analysen von Al bis U. Sie ermöglicht sogar die Ermittlung der Zusammensetzung von extrem kleinen Materialien, wie z. B. Lotbumps. Nach einer entsprechenden Kalibrierung liefert die µXRF in Echtzeit schnelle und präzise Dickeanalysen. Die Methode wird durch die Rauigkeit der Schicht nicht beeinflusst. Im Allgemeinen können auf diese Weise dickere Schichten analysiert werden als mit XRR. Die beiden Techniken ergänzen einander perfekt und können im D8 FABLINE miteinander kombiniert werden.

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