X-ray Metrology, wafer

Hochauflösende Röntgendiffraktometrie (HRXRD)

Die Technologie

HRXRD erzielt eine hohe Auflösung durch den Einsatz von Parallelstrahloptiken, u. A. durch Göbelspiegel, Monochromatoren, Soller-Schlitze und Analysatorkristalle. 

Diese Technik wird zur Bestimmung der Dicke, der kristallographischen Struktur, der Zusammensetzung und des Dehnungs-/ Entspannungsgrades von dünnen epitaktisch gewachsenen Schichten auf Substraten wie SiGe und GaN von Scheiben verwendet. Für die Analyse von unstrukturierten Scheiben werden normalerweise linienfokussierte Strahlen eingesetzt. Außerdem kann eine punktfokussierte Mikroquelle mit einer Spotgröße von bis zu 50 µm x 50 µm für präzise Messungen an strukturierten Scheiben eingesetzt werden.

X-ray Metrology Study of the SiGe Epitaxial Layer on a Patterned Wafer
(PDF Laborbericht)