Metrología de rayos X

Solución de metrología de rayos X para la industria de los semiconductores

El D8 FABLINE es la herramienta de metrología de rayos X completamente automatizada para la industria de los semiconductores, con aplicaciones en la línea de procesos iniciales y suplementarios y el embalaje. Tanto si el objetivo es el área de I+D como el control de calidad de la producción, D8 FABLINE ofrece análisis de películas finas rápidos, no destructivos y de precisión superior en obleas generales y estructuradas. D8 FABLINE ofrece posibilidades de personalización a sus aplicaciones y necesidades.

En la configuración HRXRD, ofrece análisis de grosor, composición y tensión en capas epitaxiales. Se puede adquirir en el modo XRR, que permite la determinación del grosor, la densidad y la rugosidad de varias capas finas, o como módulo µ-XRF para análisis de composición y grosor en pilas de películas metálicas. Asimismo, también es posible combinar varias aplicaciones.

El S8 FABLINE-T es la herramienta para controlar la contaminación de metal en la superficie de la oblea con TXRF. Realiza mapeos completos de metales ligeros, medianos y pesados en toda la oblea de 300 mm o 450 mm.

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