D8-FABLINE, X-ray metrology solution
Reciprocal space map, X-ray Metrology

Grosor, presión y composición de capas epitaxiales (HRXRD)

Para caracterizar el espesor, la estructura cristalográfica, la composición y el grado de relajación/tensión en películas delgadas de crecimiento epitaxial sobre sustratos, (como ejemplo SiGe ), masa de Si bruto o Si sobre aislante (SOI), SiC, GaN, semiconductores compuestos III-V, la HRXRD es la técnica elegida la más adecuada.

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XXR map thin film, X-ray Metrology

Espesor, rugosidad y densidad de películas delgadas (XRR)

Con la ayuda de la reflectividad de rayos X, es posible analizar el grosor de la capa, la densidad de la capa, la rugosidad de la superficie, la rugosidad de la interfaz de óxidos de puerta ultra finos, películas delgadas con constante dieléctrico k bajo o alto, películas y barreras de siliciuro o de polycide, y capas de deposición metálicas.

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µ-XRF, Thickness, X-ray Metrology

Composición y grosor de deposiciones metálicas (µ-XRF)

La micro fluorescencia de rayos x (µXRF) es el método destinado al análisis químico desde Al hasta U. Se puede obtener la composición de pastillas muy pequeñas, como las protuberancias de soldaduras. Una vez calibrado, el µXRF ofrece resultados de espesor rápidos y precisos in situ. El método no se ve influenciado por la aspereza de la capa. En general, se pueden analizar capas más gruesas que con XRR. Las dos técnicas juntas son complementarias y pueden combinarse en el D8 FABLINE.

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