X-ray Metrology, wafer

Reflectividad de rayos X (XRR)

La técnica

Beam Path Slit Slit, X-ray Metrology
XRR experiment

La imagen muestra la configuración típica de un equipo de XRR. La configuración se puede ajustar cambiando el monocromador o los cristales analizadores, rendijas de Soller y cuchillo anti dispersión para optimizar las condiciones de medición respeto con la muestra.

También es llamada reflectometría de rayos X. Esta es una técnica analítica sin contacto, no destructiva para determinar el grosor, la densidad, la aspereza y la rugosidad intersticial de las películas finas. Cuando los rayos X irradian la muestra con ángulos muy bajos hay reflexión total de rayos X sobre la superficie de la muestra. Si el ángulo de incidencia aumenta gradualmente más allá de un cierto ángulo llamado ángulo crítico, que depende del material, los rayos X se reflejan sobre las capas de la muestra y dan lugar a las franjas de interferencia. La periodicidad de las franjas es proporcional al espesor de la película, la intensidad es proporcional a la rugosidad de la película y la amplitud de las franjas es proporcional a la densidad de las capas superior e inferior. XRR es una técnica de medición absoluta con principios básicos. XRR y XRF se consideran técnicas complementarias.

D8 FABLINE – X-ray Reflectivity Study of Ultra Thin HfO2 Films
(informe de aplicación en PDF)