Métrologie à rayons X

Solution faisant appel à la métrologie à rayons X pour l'industrie des semi-conducteurs

Le D8 FABLINE est l'outil entièrement automatisé de métrologie par rayons X conçu pour l'industrie des semi-conducteurs. Il a des applications à l'avant et à l'arrière de la chaîne des procédés et du conditionnement. Qu'il soit destiné à la recherche et au développement ou au contrôle de la qualité de la production, le D8 FABLINE permet une analyse rapide, non-destructive et très précise des films minces sur les plaquettes de couverture ou structurées. Le D8 FABLINE s'adapte en fonction de vos applications et besoins.

En configuration HRXRD, il offre une analyse de l'épaisseur, de la composition et des contraintes sur les couches épitaxiales. Il peut également être proposé dans le mode XRR, ce qui permet de déterminer l'épaisseur, la densité et la rugosité des couches minces multiples. Un module µ-XRF est proposé pour analyser la composition et l'épaisseurs des empilages de films métalliques. En outre, plusieurs applications peuvent être combinées.

Le S8 FABLINE-T est l'outil de contrôle de la contamination métallique sur la surface de wafers par spectrométrie de fluorescence X en réflexion totale (TXRF). Il effectue la cartographie complète des métaux légers, moyens et lourds sur l'ensemble des échantillons de 300 mm ou 450 mm.