D8-FABLINE, X-ray metrology solution
Reciprocal space map, X-ray Metrology

Épaisseur, contrainte et composition des couches épitaxiales (HRXRD)

Pour caractériser l'épaisseur, la structure cristallographique, le niveau de contrainte/relaxation sur les films formés épitaxialement comme par exemple SiGe , pour le Si brut en volume ,pour Si sur isolant (SOI), SiC, GaN, pour les semi-conducteurs de composés III-V, la HRXRD est la technique qu'il convient de choisir.

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XXR map thin film, X-ray Metrology

Épaisseur, rugosité et densité des films fins (XRR)

Avec l'aide de la réflectométrie par rayons X, il est possible d'analyser l'épaisseur des couches, la densité des couches, la rugosité de la surface, la rugosité de l'interface d’oxydes de grilles ultraminces, les couches minces avec constante diélectrique de grille k élevé ou faible, des films et barrière de siliciure ou polycide, et également des dépositions de couches métalliques.

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µ-XRF, Thickness, X-ray Metrology

Composition et épaisseur de dépositions de couches métalliques (µ-XRF)

La micro-fluorescence par rayons X (µXRF) est la méthode destinée à l'analyse chimique d'Al à U. On peut obtenir la composition de très petites pastilles comme les protubérances de soudure. Une fois calibré, le µXRF donne des résultats d'épaisseur rapide et précis sur l’endroit déterminé à mesurer. La méthode n'est pas influencée par la rugosité de la couche. En général, on peut analyser des couches plus épaisses qu'avec XRR. Les deux techniques associées sont complémentaires et peuvent être combinées dans le D8 FABLINE.

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