X-ray Metrology, wafer

Analyse des films fins à l'aide de rayons X

La métrologie par rayons X concerne essentiellement l'analyse des films fins à l'aide de rayons X, qu'il s'agisse de la détermination de l'épaisseur et de la composition des multicouches, de la densité et de la rugosité, des paramètres de mailles, du degré de contrainte dans des couches épitaxiales. Plusieurs techniques complémentaires peuvent être appliquées pour obtenir les données recherchées.

Avez-vous envie d'en savoir plus sur les technologies de métrologie par rayons X ? Les liens ci-dessous vous donnent des informations sur les méthodes les plus importantes permettant de caractériser les couches minces à l'aide de rayons X tels que HRXRD, µ-XRF et XRR.