X-ray Metrology, wafer

Réflectométrie des rayons X (XRR)

La technique

Beam Path Slit Slit, X-ray Metrology
XRR experiment

L'image montre un montage habituel d'une expérience XRR. La configuration peut être adaptée en choisissant le monochromateur, les cristaux analyseurs, les fentes de Soller et le couteau anti-diffusion pour optimiser les conditions de mesure correspondant à l'échantillon.

Également appelée Réflectivité des rayons X. C'est une technique analytique sans contact et non-destructive qui permet de déterminer l'épaisseur, la densité, la rugosité de la surface et la rugosité interstitielle des couches minces. Lorsque l'échantillon est irradié par les rayons X à des angles très faibles, on constate une réflexion totale des rayons X sur la surface de l'échantillon. Á mesure que l'angle d'incidence augmente progressivement au-delà d'un certain angle (appelé angle critique), lequel est fonction du matériau, les rayons X sont réfléchis sur les couches de l'échantillon et donnent lieu à des franges d'interférence. La périodicité des franges est proportionnelle à l'épaisseur du film, la chute d'intensité est proportionnelle à la rugosité du film. L’amplitude des franges est proportionnelle à la densité des couches supérieures et inférieures. XRR est une technique de mesure de première base. XRR et XRF sont considérés comme des techniques complémentaires.

D8 FABLINE – X-ray Reflectivity Study of Ultra Thin HfO2 Films
(Rapport d'applications PDF)