JVX7300RF-T

JVX7300RF-T

JVX7300RF-Tは、製品またはブランケットウェーハ上の薄い多層膜金属層の測定用に、微小スポットXRFおよび微小及び高速XRRチャンネルを備えたマルチチャンネル計測プラットフォームを備えています。このツールは、高度な半導体プロセス(ロジック、DRAM、フラッシュおよびHDDプロセスライン)のバックエンドライン(BEOL)、MEOLおよびフロントエンドライン(FEOL)における金属および透明フィルムの高度なプロセス制御用に設計されています。


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JVX7300 RF T tool image v2
JVX7300 RF T chart 1

 

ビーム幅が50μm未満のFastXRRチャネルは、スクライブライン内で測定することができます。 FastXRRは、非破壊で非接触の方法であり、膜および多層膜の密度および界面/表面粗さの測定だけでなく、検量線を必要とせず絶対膜厚が得られます。これは、シード/バリア膜の分析に使用することができ、両方の層の厚さを単一の測定値から独立して決定する事が可能です。

スポットサイズが25μm未満の微小スポットXRFチャンネルは、最も要求の厳しい計測パッドを測定し、単一のパッドのCuディッシングをマッピングすることさえできます。

JVX7300 RF T Erosion and dishing v1