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特長と利点

  • AFMのずば抜けた分解能と原子間力プロファイラーの長距離スキャン機能を統合
  • AFMまたはプロファイラーの中で最速のスループットを実現
  • 高い再現性でインラインのSTI、W、Cu、およびCMPを計測
  • 破壊的で高コストのクロスセクション手法の代わりに使用でき、エッチ測定のターンアラウンドタイムを数日から数分に短縮
  • 独自のTappingMode™操作により高アスペクト比の形状の非破壊測定を実現

アプリケーション

  • CMPプロセスの特性解析(CU、W、STI誘電体、多結晶)
  • CMPとエッチ深さを業界トップの再現性で計測
  • 単一プラットフォームでプロファイリングと高アスペクト比の深さ測定を提供
  • 半導体、データ記憶装置、LEDの各産業の様々な用途に利用可能
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Deep Trench (DT) Mode is an AFM mode developed specifically for the repeatable measurement of deep semiconductor trench structures for 90 nm and below. It is an adaptive scan method in which data is only collected when user-specified system state conditions