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デポジション・リソグラフィ

定量的な薄膜のナノ機械的特性および界面接着の評価

 

デポジション

電子デバイスの製造においては様々な薄膜を堆積させなければなりません。最も一般的な堆積方法には、大量生産かつ高品質に薄膜を製造可能な技術である物理的蒸着(PVD)や化学的蒸着(CVD)があります。しかしながら、それらで得られる薄膜の特性を理解し、制御することは複雑なプロセスです。薄膜にはアモルファスから単結晶まで、単原子層から多層コーティングまで、緻密な構造から多孔質まで様々なものがあり、堆積条件に応じて構造的および化学的な勾配をつけることができます。

これらのパラメーターの多様性を考えると、作製された薄膜の機械的特性や界面特性を容易にコントロールするためのハンドブックはないということになります。薄膜の特性は、堆積プロセスの、基板上の膜成長速度論やメカニズムの詳細、中間プロセス、堆積後プロセスに強く依存します。これらを理解し、制御するためには、薄膜の機械的特性および界面接着特性を定量的に評価することで、プロセスパラメーターを理論的に設定することが最も重要です。

リソグラフィ

リソグラフィは電子デバイス製造における中間工程です。フォトレジストの機械的特性や界面特性、それらにフォトリソグラフィプロセスがどのような影響を与えているのかはリソグラフィを理解する上で重要なパラメーターとなります。弾性率やガラス転移温度などレジストの特性を理解することで、レジスト構造がプロセス処理中に遭遇する様々な応力や環境条件に耐えるための指標として利用できます。

ブルカーは薄膜の定量的なナノスケールの機械的特性および界面接着特性評価を可能にするための包括的な一連の試験装置およびキャラクタリゼーション技術を開発しました。ナノインデンテーション測定は、薄膜の弾塑性特性を評価することが可能で、さらに粘弾性特性評価のために動的測定(nanoDMA)も行うことができます。さらにナノスクラッチ測定などにより薄膜界面接着特性を定量化することも可能です。ナノスケールでこれらの特性を迅速に測定し、制御することで、次世代の電子デバイスに必要な材料の開発およびプロセス制御をより効率的に行えます。

デポジション・リソグラフィが評価可能な独立型ナノインデンテーションシステム

TI980 Tool Image v5

TI 980 TriboIndenter

ブルカーの最先端のナノ力学特性、ナノトライボロジー特性評価装置。最大の性能、順応性、信頼性、感度、測定スピード。

TI950 Tool Image v5

TI 950 TriboIndenter

多用途に使用可能なナノ力学特性、ナノトライボロジー特性評価装置。幅広い複合評価をご提供可能。

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TI Premier

コンパクトなプラットフォームでナノスケールの力学特性評価のエッセンスを詰め込んだナノ力学特性評価専用装置。

デポジション・リソグラフィが評価可能な顕微鏡搭載型ナノインデンテーションシステム

PI 85l SEM Picoindenter icon

PI 85L SEM PicoIndenter

SEM(走査電子顕微鏡)中で行うin-situナノ力学特性評価ベーシックモデル

 

PI 88 SEM Picoindenter icon

PI 88 SEM PicoIndenter

SEM、FIB/SEM中で行うin-situナノ力学特性評価ハイエンドモデル

 

PI 95 TEM Picoindenter icon

PI 95 TEM PicoIndenter

TEM(透過電子顕微鏡)中で行うin-situナノ力学特性評価モデル

 

TS 75 Product image v1

TS 75 TriboScope

ブルカーのAFM(原子間力顕微鏡)に取り付けてナノインデンテーションを行う専用アタッチメント