S8 FABLINE, X-ray metrology, Surface Contamination Monitoring

Fabにおける表面汚染の測定装置

S8 FABLINE-T は全反射蛍光X線分析法(TXRF)によりウェーハ表面の微量金属汚染を測定する装置です。 液体や気体の化学物質を使用することなく、高速、非破壊、表面高感度な測定手法です。

S8 FABLINE-Tは、エッジ・エクスクルージョンが0mmで、全面マッピング測定が行えます。 この装置は、複数のX線源を有し、軽元素から重元素まで、最適化した励起源が選択可能です。 直観的なユーザー・インターフェースは、間違いのない操作を確実にします。 300mm、450mmェーハの完全自動処理を行います。 さらに、システムは、SEMI S2/S8、及び、CEに準拠しています。

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