Metrologia por Raios X

Solução de Metrologia por Raios X para a indústria de semicondutores

O D8 FABLINE é um instrumento de metrologia por raios X totalmente automatizado para a indústria de semicondutores, encontrando aplicações tanto no front end (fabricação) quanto no back-end (encapsulamento) da linha de processo. Seja para fins de P&D ou controle de qualidade na produção, o D8 FABLINE permite análises não destrutivas de filmes finos em wafers estruturados e não estruturados, com rapidez e alta precisão. O D8 FABLINE foi concebido especificamente para as suas aplicações e necessidades.

Na configuração HRXRD, oferece análises de espessura, composição e deformação (strain) em camadas epitaxiais. Pode ser fornecido na configuração XRR, que permite a determinação da espessura, densidade e rugosidade de multicamadas finas. Oferecemos ainda um módulo de µ-FRX para análise de composição e espessura em filmes metálicos empilhados. Também é possível atender a um conjunto de múltiplas aplicações.

O S8 FABLINE-T é a ferramenta para monitoração da contaminação de metal na superfície do wafer por TXRF. Faz o mapeamento completo de luz, metais médios e pesados em todo um wafer de 300 mm ou 450 mm.