S8 FABLINE, X-ray metrology, Surface Contamination Monitoring

Monitoração de contaminação de superfície em Fab

O S8 FABLINE-T é a solução para monitoramento da contaminação de resíduos metálicos em superfície de "wafer" por fluorescência de raios X de reflexão total – TXRF (Total Reflection X-Ray Fluorescence). Trata-se de uma técnica rápida e não destrutiva de detecção de superfície, que não requer o uso de fluidos.

O S8 FABLINE-T pode mapear totalmente com medição de exclusão de "edge" de 00 mm. Contém várias fontes de raios X para excitação otimizada de elementos leves, médios e pesados. A interface de uso intuitivo (PTO) garante uma operação sem falhas da ferramenta. O manuseio totalmente automático aceita "wafers" de 300 mm e 450 mm. Além disso, o sistema atende as normas SEMI S2, S8 e CE.

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