software, X-ray diffraction, DIFFRAC.SUITE

LEPTOS H

LEPTOS H steht für hochauflösende Röntgendiffraktometrie und die Analyse von Daten aus der Röntgenbeugung unter streifendem Einfall.

 

Das Modul ist vollständig in die LEPTOS-Suite integriert, welche die gleichzeitige Analyse von HRXRD-, GISAXS- und XRR-Daten ermöglicht. Als Teil der LEPTOS-Suite besitzt das H-Modul alle gemeinsamen Funktionen des Gesamtpakets.

LEPTOS H Software, XRD
LEPTOS H contains an Area Mapping module that makes it possible to treat HR-XRD data taken point-by-point over a large sample area and to display mappings of sample parameters.

 

 

Theorie

  • Schneller 2x2 und präziser 4x4 rekursiver Matrix-Formalismus zum Ausgleich der Beschränkungen des Takagi-Taupin-Ansatzes.
  • Operator-Methode für die universelle Berechnung der Röntgenstreuungsparameter von kristallinen Materialien, wie z. B. atomaren Streufaktoren, Röntgenpolarisierbarkeiten, etc.
  • Patentierte EigenWaves-Methode (MEW) für die unerlässliche Beschleunigung der Fits für die Übergitter und sich wiederholende Multischichten.

Probeneditor

  • Leistungsstarker und flexibler Probeneditor mit Tools für Übergitter, die Verbindung von physikalischen Schichtparametern und benutzer- definierte Schichtprofile.
  • Umfassende, erweiterbare Materialdatenbank
  • Cell Builder für die automatische Anpassung der kristallographischen Probeneigenschaften: Gitterspannung und -diskrepanzen, Entspannungsgrad, Elementkonzentrationen und Massendichte
  • Virtuelles Diffraktometer für die Geräteauflösung und Footprint-Effekte

Datenauswertung

  • Simulation, Schätzung und Fitting von Daten im direkten und reziproken Raum
  • Gleichzeitige Auswertung von mehreren, an einer Probe gemessenen Bragg-Reflexionen
  • Fast Fourier Transform (FFT) für eine schnelle Schätzung der Schichtdicke und Estimate-Tool für die schnelle Auswertung der Probenparameter von Peak-Positionen direkt anhand der Messdaten
  • Präzises Fitting von zahlreichen Probenparametern anhand der erweiterten Dynamischen Theorie. Verfügbare Fit-Verfahren: genetischer Algorithmus, Simulated Annealing, Simplex- oder Levenberg-Marquardt-Algorithmus
  • Berücksichtigung der unpolaren Orientierungen der kristallographischen Einheitszelle und verschiedener {hkl} Reflexionen einer einzigen Probe
  • Flächenabbildung; automatische Datenauswertung über Skriptschnittstelle

Datenausgabe

  • Abspeichern der Ergebnisse in XML-Projektdateien
  • Mehrere Berichtsoptionen und benutzerdefinierter Export