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高分子のための AFM 分析技術セミナー

高分子のためのAFM分析技術セミナー
ウェビナー開催日: 3月 19th 2019

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概要

本セミナーでは、ナノスケール機械特性評価の第一人者である東京工業大学中嶋健教授を招き、高分子のナノレオロジーについて、基礎から最新の
ご研究内容についてご講演頂きます。ブルカーからは昨年末に発表となった商用AFMで初となり、そして唯一の定量的粘弾性測定モードとなる
AFM-nDMAオプションと新しいDimension XRをご案内致します。また、機械特性評価で市場から高い評価を得ているハイジトロンナノインデン
テーションシステム及び、Anasys nanoIRによるナノスケール赤外分光の最新技術をご紹介致します。

特に、高分子のアプリケーションを対象としたセミナーとなりますので、ご関連の皆様のお越しを心よりお待ちしております。

 

会場

スペースまる八 space-maruhachi.com/contact/

 

プログラム

13:15~13:30     開会のご挨拶

13:30~14:40     [招待講演]  Invited Speaker 

「 AFMを用いたナノレオロジーの可能性」

    東京工業大学  中嶋 健 教授

14:40~15:10 「 最新nDMAモードとAFM機械特性評価ソリューション」 

15:10~15:30 休憩( 名刺交換)

15:30~16:10 「 ナノインデンテーションを用いた高分子材料の機械特性評価」

16:10~16:50 「 高分子のナノスケール赤外分光技術」

16:50~17:00 Q&A、アンケート

詳細はこちら

www.bruker-nano.jp/afm-ndma-seminar

演者

Ken Nakajima, Ph.D.
Ken Nakajima, Ph.D.
Tokyo Institute of Technology