X-ray analysis techniques on advanced thin films

最先端 ”極” 薄膜材料に対するX線回折ソリューション

ウェビナー開催日: 10月 24th 2019

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– 最新型X線回折装置の紹介とともに –

薄膜は数 nm (10-9 m) から数10 μm (10-5 m) の厚さを有する物質で、バルク状態とは異なる物性を示すことから、基礎分野のみならず応用分野からも広く研究されています。材料が薄膜スケールに小さくなると、X線回折 (XRD) においてもサンプル由来の信号減少、下地基板由来の信号増加などの影響により、分析が困難になることがあり、サンプル搭載方法や光学系の選択、サンプルと回折計の最適化といった工程が肝要となります。本ウェブセミナーでは、薄膜XRD分析における課題とそれらの解決方法を示すとともに、測定時に見られる予期せぬ信号の除去方法も併せてご紹介いたします。併せて、特に数100 nm以下の薄膜や10 nmを下回る薄膜領域における機能性薄膜材料に薄膜XRD分析アプローチを適用したアプリケーション事例をご紹介いたします。本ウェブセミナーに先立ち、X線反射率測定(XRR)の原理・データの見方から解析のノウハウ」を事前にご覧いただくことで、薄膜XRD分析の理解度向上に役立ちます。

 

主な内容

  • 薄膜材料と薄膜XRD
  • 薄膜XRDに必要な装置の特徴
  • 薄膜XRDアプローチ

    • θ-2θスキャン
    • X線反射率測定
    • すれすれ入射測定(薄膜法)
    • すれすれ入射面内測定(In-plane測定)

  • まとめ

 

● 2019年10月24日(木)13:00-(終了)

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This webinar is held in Japanese.