今回のウェビナーでは特に近年実用化された技術を中心に、AFMのみならずX線評価技術・装置も併せて紹介致します。製品開発のみならず材料、素材、分析技術、製造装置など半導体に関わる多種多様な分野の方に興味を持っていただけるセミナーです。(約42分)
これまで原子間力顕微鏡(AFM)は半導体各工程において、ウェーハーの表面粗さ、凹凸形状、欠陥、膜厚の自動測定から、不純物濃度や機械・化学特性の微細解析迄、多種多様な目的に使われてきました。今回のウェビナーでは特に近年実用化された技術を中心に、AFMのみならずX線評価技術・装置も併せて紹介致します。製品開発のみならず材料、素材、分析技術、製造装置など半導体に関わる多種多様な分野の方に興味を持っていただけるセミナーです。
<プログラム>
①25分 「半導体研究開発向け:
表面形状・欠陥計測からナノスケール機械特性・電気特性評価への応用」
②20分「半導体研究開発向け:
10 nm の微小異物が分かる - ナノ赤外分光装置Dimension IconIR -」
③15分 「半導体製造ライン向け:
表面形状及び欠陥測定用全自動高速(原子間力)顕微鏡」
④15分 「半導体製造ライン向け:
X線を使用した各種全自動測定システムとウェハ洗浄機の紹介」
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※ 同業企業様のご参加はご遠慮いただいております。予めご了承願います。
このウェビナーで取り上げられた技術の詳細や、原子力顕微鏡(AFM)向けの当社の他のソリューションについて、詳しくはこちらをご覧ください: