software, X-ray diffraction, DIFFRAC.SUITE

LEPTOS H

Le LEPTOS H correspond à l'analyse des données de la diffraction des rayons X à haute résolution et de la diffraction des rayons X à incidence rasante.

 

Ce module est entièrement intégré dans la suite LEPTOS, laquelle comprend l'analyse simultanée des données HRXRD, GISAXS et XRR. Faisant partie intégrante de la suite LEPTOS, le module H hérite de toutes les fonctionnalités communes à l'ensemble du progiciel.

LEPTOS H Software, XRD
LEPTOS H contains an Area Mapping module that makes it possible to treat HR-XRD data taken point-by-point over a large sample area and to display mappings of sample parameters.

 

 

Théorie

  • Formalisme matriciel récursif rapide 2x2 et précis 4x4 permettant de dépasser les limitations de l'approche Takagi-Taupin
  • Méthode d'opérateur pour le calcul universel des paramètres de la diffusion des rayons X à partir de matériaux cristallins tels que: facteurs de diffusion atomique, polarisabilités des rayons X etc.
  • Méthode brevetée d'EigenWaves (MEW) pour l'accélération essentielle des ajustements pour les super-réseaux et les multicouches répétées

Éditeur d'échantillons

  • Éditeur d'échantillons performant et flexible, dont les outils pour les super-réseaux, la liaison des paramètres physiques des couches, les profils de couches définis par l'utilisateur
  • Base de données des matériaux, vaste et extensible par l'utilisateur
  • Moteur Cell Builder pour un ajustement automatique des propriétés cristallographiques des échantillons: contrainte des réseaux et discordances, degré de détente, concentrations élémentaires et densité de la masse
  • Diffractomètre virtuel permettant de prendre en compte la fonction de résolution instrumentale et les effets d'empreinte

Évaluation des données

  • Simulation, estimation et ajustement des données en espace direct et réciproque
  • Évaluation simultanée de plusieurs réflexions Bragg mesurées à partir d'un seul échantillon
  • Fast Fourier Transform pour une estimation rapide de l'épaisseur des couches et outil Estimate pour l'évaluation rapide des paramètres d'échantillons à partir des positions maximales, directement issues des données mesurées
  • Ajustement précis de nombreux paramètres d'échantillons en utilisant la théorie dynamique avancée. Routines d'ajustement disponibles: algorithme génétique, recuit simulé, Simplex ou Levenberg-Marquardt
  • Considération des orientations non-polaires de la cellule unitaire cristallographique et des différentes réflexions {hkl} dans un seul échantillon
  • Cartographie de zones, évaluation automatisée des données via l'interface script

Production

  • Enregistrement des résultats dans des fichiers de projet XML
  • Plusieurs options de reporting et exportation personnalisable