X線反射率測定(XRR)の原理・データの見方から解析のノウハウ

X線反射率測定(XRR)の原理・データの見方から解析のノウハウ

This webinar took place on December 13th 2018

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内容

X線反射率測定(X-ray reflectivity; XRR)は、膜表面から基板界面までの密度プロファイルを非破壊で検出する技術です。そのため、研究開発から品質管理まで幅広いフィールドで利用されています。解析の結果得られる数値パラメーターとしては、膜厚、膜密度、ラフネスがあります。 単層膜の場合には、膜のそれらに加え膜/基板の界面ラフネスがパラメーターとなり、 多くの変数があるため解析が困難になりやすい点も否めません。

本ウェブセミナーでは、XRRを薄膜評価に適用する際に知っておきたい原理、測定時の注意点、データの見方、解析のノウハウについてご紹介いたします。

主な内容

  • X線反射率測定の原理
  • 測定時の注意点

    • 代表的な光学系設定
    • サンプルサイズ

  • 測定結果の見方

    • 膜厚による効果
    • 密度による効果
    • ラフネスによる効果

  • 解析のノウハウ: LEPTOSソフトウェアを用いた実例

 

本Webinarは終了しております。
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Speaker

Hitoshi Morioka Ph. D.
Hitoshi Morioka Ph. D.
Application Lab Manager & XRD Application Scientist / Bruker Japan K.K. (X-ray Division)
森岡 仁/XRDアプリケーション & アプリケーション 統括マネージャー/ブルカージャパン株式会社 X線事業部