software, X-ray diffraction, DIFFRAC.SUITE

LEPTOS G: GISAXS解析モジュール

LEPTOS Gは、視斜角入射小角X線散乱 (Grazing-Incidence Small-Angle X-ray Scattering: GISAXS) データ解析用モジュールです。GISAXSは、試料表面や表面近傍の内部に形成された、ナノスケールの構造体からの情報を記録します。たとえば、表面または埋め込み構造の半導体量子ドット (quantum dots: QDs)、多孔材、凝集粒子、高分子ナノ粒子などの評価に適用できます。LEPTOS Gモジュールライセンスには、反射率解析モジュール (LEPTOS R)を含みます。LEPTOS Gでできること:

  • 形状、寸法、表面/バルク密度、相関長などのナノ粒子に関するパラメーターの解析
  • 強力な最適化アルゴリズムを使用した、サンプルモデルシミュレーションを2D像からの積分結果、または1D測定データに適用
  • 複数の残差自乗和モデル: 絶対値、Log、規格化Log
  • 粒子モデル (Zhu、剛体球) と分布形状 (均一、Lorentz関数、Gauss関数) 間の相関タイプ用物理モデルのサポート
  • 他のLEPTOSモジュールと共有可能な包括的マテリアルデータベース (非晶質材料と結晶性材料を含む)
  • シミュレーション結果と測定結果における強度スケールやバックグラウンドレベルの柔軟な補正機能