X線回折 (XRD)

DIFFRAC.LEPTOSソフトウェア

DIFFRAC.LEPTOSは、X線反射率測定 (XRR)、高分解能X線回折測定 (HRXRD)、すれすれ入射小角X線散乱 (GISAXS)、残留応力 (RS)データを解析するための包括的なソフトウェアです。

ハイライト

フル機能を有する材料評価ソフトウェアパッケージ

X線反射率測定結果 (XRR) は、サンプル密度、膜厚、表面・界面ファルネスを含む詳細な膜厚方向のサンプル密度プロファイル情報を提供します。高分解能X線回折 (HRXRD) では、エピタキシャル薄膜サンプルの結晶構造を分析します。すれすれ入射小角散乱法 (GISAXS) は、ナノ粒子や空隙率の評価に使用されます。残留応力解析では、バルクサンプルや多結晶コーティング層のひずみ状態を明らかにします。

DIFFRAC.LEPTOSでは、従来の単一の1Dスキャン結果にくわえ、HRXRDやXRR測定における高解像度な2次元逆格子空間マッピング(2D RSM)、GISAXS2測定結果、残留応力解析用XRD2フレームデータ、さまざまなエリアマッピング測定結果の解析をサポートしています。それらの測定結果は、0D / 1D / 2D検出器のいずれでも取り扱うことができます。

グラフィカルユーザーインターフェース (GUI) は、研究者向けの全機能表示と作業者向けの簡易表示板の切り替えが可能です。

  • XRR、HRXRD、GISAXS、残留応力測定結果の共通解析プラットフォーム
  • 回折空間 (角度座標) および逆格子空間座標における高度なX線散乱理論と計算手法によるシミュレーションデータフィッティング解析
  • 0D / 1D / 2D検出器で記録されたすべての1次元・2次元データセットを包括処理
  • さまざまな薄膜・バルクサンプルのパラメーター解析を実現する統一されたサンプルモデルエディター
  • 230すべての結晶空間群をサポートした包括的かつ拡張性にすぐれた材料データベース
  • サンプル面内で多点記録された測定結果の解析と可視化を行うエリアマッピングツール
  • 1Dおよび2Dデータセットに対応した先進的な sin²ψ 解析機能、2Dストレス解析機能、およびコーティングサンプルの複数の回折指数を用いる薄膜応力解析機能 (Multiple HKL法)

特長

DIFFRAC.LEPTOSモジュール

LEPTOS R: X線反射率解析モジュール

LEPTOS R: 各種拡散散乱マッピング結果とDSロッキングカーブ。回折空間 (角度座標) や逆空間での散乱プロファイルのシミュレーションとフィッティング解析をサポート

LEPTOS Rは、薄層サンプルのX線反射率測定 (XRR) データと散漫散乱測定 (DS) データの解析用に設計されています。このモジュールは、HRXRD、GISAXS、XRRデータの同時解析を組み込んだLEPTOSスイートに完全に統合されています。LEPTOSスイートの一部として、このRモジュールはパッケージ全体に共通の機能や操作性があります。

LEPTOS Rは、VAMASプロジェクトA10などの数々の国際的なラウンドロビンテストでベンチマークとして高く評価されています。LEPTOS Rは、新たに開発されたXRRデータフォーマットに関する国際標準規格であるrfCIFに準拠しています。

LEPTOS H: 高分解能X線回折解析モジュール

LEPTOS H: 機能のひとつ、エリアマッピングツール。サンプルの異なるXY座標において個別に測定された結果を解析し、各種パラメーターのマッピング表示に対応

LEPTOS Hは高分解能X線回折およびすれすれ入射X線回折データ解析用に設計されています。

このモジュールは、HRXRD、GISAXS、XRRデータの同時解析を組み込んだLEPTOSスイートに完全に統合されています。LEPTOSスイートの一部として、このHモジュールはパッケージ全体に共通の機能や操作性があります。

LEPTOS S: 残留応力解析モジュール

LEPTOS S: 薄膜応力解析用Multiple HKL機能。入射角を適宜変更し、X線の吸収、屈折、膜厚を適切に考慮し、応力勾配の視覚化が可能

LEPTOS Sは、従来のsin2ψ法と拡張XRD2法を用いて0D / 1D / 2D検出器で測定された残留応力データセットを解析するための革新的かつ強力な包括的モジュールです。このモジュールはLEPTOSスイートに完全に統合されており、パッケージ全体に共通の機能や操作性があります。

LEPTOS G: すれすれ入射小角X線散乱解析モジュール

LEPTOS G: 2D GISAXSデータの1次元化とフィッティング解析機能を搭載

LEPTOS Gは、サンプル表面にすれすれ入射条件での小角X線散乱結果の解析を行います。これらには、例えば、半導体量子ドットや島状構造体、多孔質材料、凝集粒子、ポリマーナノ粒子などが知られています。さらにこの構造はサンプル表面のみならず、膜中に埋設された状態での解析を可能にします。LEPTOS Gモジュールのライセンスには、X線反射率のためのLEPTOS Rモジュールの機能も含まれます。

仕様

DIFFRAC.LEPTOSソフトウェア技術仕様

バージョン

現在のバージョン: 7.12.32

対応解析手法

動力学的Parrattの漸化式

各種界面ラフネスモデル

各種原子散乱因子

特許技術 Eigenwave法 (MEW)

行列の帰納的形式化: 高速2×2モードと精密4×4モード

従来式sin2ψ法、拡張sin2ψ法、2Dストレス解析法

Multiple HKL法 (薄膜応力解析法)

多結晶薄膜の応力・歪み深さ分布解析

対応OS

Windows 8、Windows 10 (32ビット版、64ビット版)