分光エリプソメトリー
薄膜の厚さと誘電特性の評価
分光エリプソメトリーは、単層または複層の薄膜および超薄膜（1Å未満まで）を測定する強力な手法です。薄膜の厚さや均一性に対して極めて高い感度を持ち、ほぼあらゆる透明薄膜の解析に利用できます。特に超薄膜（100 nm未満）の測定に優れており、測定光の波長よりも薄い層、さらには単一原子層未満の膜厚まで評価可能です。これにより、他のエリプソメトリーや反射率測定技術よりも優れた膜厚測定限界を実現しています。さらに分光エリプソメトリーは、膜厚だけでなく、試料の誘電特性（複素屈折率や誘電関数テンソル）および光学定数を、きわめて高い精度と再現性で測定できます。試料によっては、屈折率分解能2×10⁻³を達成可能です。
FilmTek分光エリプソメーターは、先進的な回転補償器設計を採用しており、クラス最高の再現性と他の設計（回転検光子式エリプソメーターなど）と比較して優れたエリプソメトリー性能を提供します。さらに、FilmTek 分光エリプソメーター（SE）シリーズは、単一技術で高いコストパフォーマンスを実現したモデルから、複数の測定技術を統合した高度な複合システムまで、幅広いラインアップを展開しています。複合モデルでは、分光エリプソメトリーに加えて、他の薄膜評価手法やFilmTek独自技術を組み合わせることで、一般的な分光エリプソメーターが苦手とする屈折率分解能、複雑な層構造、材料や基板の制約を乗り越え、難易度の高い材料や測定要件にも対応できます。
FilmTek SEモデルによるエリプソメトリーデータの取得は、簡単で効率的、かつ直感的に行えます。独自のFilmTekソフトウェアと最適化アルゴリズムを備えたこれらの自動化システムは、手動での測定校正やデータ取得・解析に伴いがちな操作停止時間や人的ミスのリスクを大幅に低減します。さらに、一般的なエリプソメーターとは異なり、試料の手動アライメントは一切不要です。
