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化合物半導体のX線計測

Brukerは、化合物半導体の膜厚・組成QCモニタリングと、幅広い半導体薄膜膜およびウェーハの詳細なRD分析の両方にX線計測ツールを提供しています。

BrukerJV-QC3JV-QCVeloxは、高性能な検出器と専用に設計されたハードウエアを備えているため、高いスループットと再現性の高い測定が可能です。エピ層膜の結晶品質および組成、特にGaNおよびIII-V材料の製膜システムへの迅速なフィードバックが可能になります。このフィードバックは、ローカルまたは自動で工場ホストソフトウェアに伝達することができます。

JV-DX X線計測システムは、材料研究、プロセス開発、および品質管理に使用される薄膜の分析を提供します。先進的な汎用X線回折装置として、業界標準の解析ソフトウェアとすべての標準技術が組み込まれています。その能力と機能の組み合わせにより、JV-DXは現在および将来の計測ニーズに対応する理想的なマルチアプリケーションの薄膜材料研究ツールです

Lee Hodge Semiconductor testimonial v2
JV QC3 product image v1

JV-QC3

GaN LEDやIII-V属化合物半導体向け高分解能XRD測定装置

JV QCVelox 3

JV-QCVelox

GaN LEDやIII-V属化合物半導体向け高性能、高分解能XRD測定装置

JVDX Tool Image v2

JV-DX

材料研究、プロセス開発、品質管理のための薄膜解析用X線計測システム

RADS Software Icon v1

RADS Software

迅速かつ正確なXRD測定分析を可能にするソフトウェア