解决硅化钽半导体的峰重叠
1.6-1.9 keV能量区域的钽硅化物的X射线光谱。与EDS（红色宽峰）相比，WDS的高能量分辨率让Ta 和Si 的谱峰完美分离。
钽硅化物作为氧化或耐温涂层材料，被广泛的应用于微电子和光学器件。在半导体材料（如硅片）中，钽硅化物也常常充当耐火材料。
为了在质量控制中实现高空间分辨率，必须以低加速电压对材料进行分析，而这个前提常常让次要物相的识别变得困难。在低加速电压下，样品中只产生Ta M 线系，而Ta 的M 线系会与基板 Si Kα 线系谱峰发生严重重叠。
最终我们得到的 EDS 峰值相较主要元素的理论峰值略有变宽，并掩盖了第二个元素的存在。相比之下，使用 QUANTAX WDS 可以成功剥离Ta 元素，因为WDS相比EDS的分辨率更为优越。
Alternatives to Wavelength Dispersive Spectroscopy
QUANTAX WDS is no longer available to purchase. However, we have suitable alternatives that cover the benefits of WDS - light element detection, peak deconvolution, trace element detection and efficient X-ray line separation.
To learn more about these solutions view our page Analytical Alternatives to Wavelength Dispersive Spectroscopy.
Information about the end of sales and service lifetime of QUANTAX WDS and XSense can be found here.
