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镀层厚度变化面扫描分析

该样品是用于光辅助电解的测试装置。 是通过磁控喷溅将Cu-Al靶材单层喷涂玻璃基底上,沿表面具有浓度梯度。

X 射线具有一定穿透性,因此XRF 常用于镀层样品厚度的分析。在微米尺度具有极佳的空间分辨率,使得微区XRF能够对渐变镀层(厚度和组成)快速准确进行面扫描分析。镀层分析可以基本参数法为基础,结合标准样品进行有效提升分析准确度。因此,不仅可用于精确测试有”成熟标样“的常见镀层样品,如 ENEPIG 镀层、ZnNi 镀层或焊层等,也可应用于新型镀层样品的生产研发。

以 50 μm 步径,单个像素点积分时间50 ms 对5 x 5 cm2 的整个样品进行面扫描。可直观清晰呈现 Al 和 Cu 的元素的浓度分布梯度。
使用Qmap功能对样品进行分析(用于图层厚度分析,5x5 可产生 250 μm 分辨率),对 Si 上的 Cu:Al 厚度定量分析。尽管这种新型样品系统没有标准样品,基于基本参数法获得峰分析结果仍然与研发人员的期望非常吻合。