镀层厚度变化面扫描分析
该样品是用于光辅助电解的测试装置。 是通过磁控喷溅将Cu-Al靶材单层喷涂玻璃基底上，沿表面具有浓度梯度。
X 射线具有一定穿透性，因此XRF 常用于镀层样品厚度的分析。在微米尺度具有极佳的空间分辨率，使得微区XRF能够对渐变镀层（厚度和组成）快速准确进行面扫描分析。镀层分析可以基本参数法为基础，结合标准样品进行有效提升分析准确度。因此，不仅可用于精确测试有”成熟标样“的常见镀层样品，如 ENEPIG 镀层、ZnNi 镀层或焊层等，也可应用于新型镀层样品的生产研发。
以 50 μm 步径，单个像素点积分时间50 ms 对5 x 5 cm2 的整个样品进行面扫描。可直观清晰呈现 Al 和 Cu 的元素的浓度分布梯度。
使用Qmap功能对样品进行分析（用于图层厚度分析，5x5 可产生 250 μm 分辨率），对 Si 上的 Cu：Al 厚度定量分析。尽管这种新型样品系统没有标准样品，基于基本参数法获得峰分析结果仍然与研发人员的期望非常吻合。