D8 DISCOVER
高性能XRD
ハイライト
D8 DISCOVERは、最先端のテクノロジーを搭載した多目的X線回折計のフラッグシップモデルです。粉末、非晶質、多結晶材料からエピタキシャル多層薄膜まで、あらゆる材料の構造解析を大気雰囲気や雰囲気制御下で実現できるよう設計されています。
アプリケーション：
- 結晶相同定・結晶相定量、構造解析と精密化、結晶子サイズや結晶子歪などの微構造解析
- X線反射率測定 (XRR)、すれすれ入射回折 (GIXRD)、面内回折 (In-Plane GID)、高分解能回折 (HRXRD)、すれすれ入射小角X線散乱 (GISAXS)、薄膜応力解析、結晶方位解析 (ODF)
- 残留応力解析、集合組織・極点図測定、微小部X線回折 (μXRD)、広角X線回折 (WAXS)
- 全散乱測定: Bragg回折、二体分布関数 (PDF)、小角X線散乱 (SAXS)
マーケットギャラリー
エネルギー貯蔵・バッテリー
製薬
地質・鉱物
金属材料・機械部品
薄膜分析
特長
主な機能
マイクロフォーカスX線源 IμS
2次元多層膜ミラーMONTEL光学系を採用したマイクロフォーカスX線源 IμSは、微小領域や小さなサンプルの分析に最適な高輝度微小平行ビームを形成します。
- 高輝度・低バックグラウンドmmサイズX線ビーム
- 低消費電力、完全空冷、長寿命設計を実現するグリーンデザイン
- MONTEL光学系がビームサイズとビーム発散を最適化
- Brukerの豊富なコンポーネント、光学系、検出器シリーズと完全互換
UMC サンプル ステージ
D8 DISCOVERでは、比類のないマッピングエリアとサンプル耐荷重を兼ね備えた数多くのUMCステージを選択できます。
- 最大耐荷重5kgまでのサンプルマッピング
- 最大300mmサイズまでの広域サンプルマッピング
- 最大3つのウェルプレートを搭載できるハイスループットスクリーニング (HTS)用ウェルプレートチェンジャーUMCステージ
すぐれたモジュールデザインにより、標準的な構成をさらに拡張することで、測定ニーズに応じたカスタマイズが可能です。
マルチモード検出器 EIGER2 R 500K
EIGER2 R 500Kは、放射光の測定機能を実験室系XRDにもたらすマルチモード検出器です。
- 革新的な第2世代EIGER技術にもたらされた先進的なセンサーデザイン: 75×75 μm2サイズ、500,000超の微細ピクセルが実現するミクロな分解能と広域検出領域
- サンプル－検出器間距離の自動認識やツールを用いない検出器搭載方向の切り替えを実現する人間工学デザイン。無段階検出器距離に応じた自動曲率補正機能や0o / 90o搭載方向の切り替えは最小限の労力で
- 大型検出領域を有効化するパノラミック広域光学系とさまざまなアクセサリー
- 0D / 1D / 2D検出モードに加え、スナップショット、ステップスキャン、連続スキャン、アドバンスドスキャンの測定モードをサポート
- DIFFRAC.SUITEソフトウェアに完全かつシームレスに統合
TRIO・PATHFINDER PLUS 複合光学系
特許技術のTRIO光学系により、3つの入射側ビームパスをマウスクリックでPush-Button切り替え。
- 粉体サンプル用集中法Bragg-Brentano光学系
- XRR、GID、キャピラリー測定用高強度Kα1,2平行ビーム
- エピタキシャル薄膜などの高分解能XRD用Kα1平行ビーム
PATHFINDERPlus 光学系には、自動減衰板に加え2つの受光側ビームパスをマウスクリックでPush-Button切り替え:
- サンプルアライメントや高強度測定用電動可変スリット
- 高分解能測定用アナライザー結晶
TRIOとPATHFINDERPlusを搭載したD8 DISCOVERは、粉末サンプル、バルクサンプル、繊維サンプル、シート状サンプル、薄膜（アモルファス、多結晶、エピタキシャル）を含むすべてのサンプル測定に対応しており、光学系調整を必要とせず、雰囲気制御アタッチメントを利用した条件でも使用できます。
SNAP-LOCK
TRIO光学
LYNXEYE XE-T
TURBO X-RAY SOURCE (TXS)
MONTEL光学系搭載IμSマイクロフォーカスX線源
TWIST-TUBE
アプリケーション
プレミアムクラスX線回折装置
薄膜解析
X線回折 (XRD)は、積層構造を有する薄膜サンプルにおいて非破壊評価を成し遂げる重要な役割を果たします。D8 DISCOVERとDIFFRAC.SUITEソフトウェアは、薄膜XRD解析において測定や解析を簡単に実現します。
- 結晶相同定や結晶子サイズ・結晶子歪などの微構造解析を、より表面敏感に実施するすれすれ入射X線回折 (GID)
- 単層膜、積層膜から複雑な超格子薄膜構造にいたるあらゆる薄膜サンプルにおける膜厚、表面/界面ラフネス、密度、密度プロファイルを得るX線反射率測定 (XRR)
- エピタキシャル成長薄膜サンプルにおける詳細構造解析を成し遂げる高分解能X線回折 (HRXRD): 膜厚、格子歪、格子ミスマッチ、緩和率、モザイク性、混晶材料の組成分析
- 残留応力解析と優先配向・結晶方位解析
材料研究
材料の構造情報と物理特性を結びつけることができるXRDは、材料研究におけるもっとも重要な分析アプローチのひとつです。その点において、D8 DISCOVERは、まさに材料研究のフラッグシップXRD装置といえます。最先端技術にもとづく各種コンポーネントを搭載するD8 DISCOVERは、最高の性能とフレキシブルさを兼ね備え、多くの研究者に材料の詳細な構造解析結果をもたらします。
- 結晶相同定と結晶構造決定
- 結晶子サイズや結晶子歪を含む微構造解析
- 残留応力解析、結晶配向・集合組織解析
- μmサイズ入射X線を用いた微小部XRD分析 (μXRD)
- 逆格子空間マッピング
スクリーニングと広範囲マッピング
D8 DISCOVERは、ハイスループットスクリーニング (HTS)や大型サンプルの広範囲マッピングに最適なソリューションです。大型サンプル対応UMCステージは、D8 DISCOVERを広い可動範囲と対応重量の両面で他の追随を許さないサンプルハンドリングをご提供します。
- 反射法/透過法両対応ウェルプレートのハイスループットスクリーニング (HTS)
- 最大300mmサイズサンプルのX/Yマッピング
- 最大5kgのサンプルのX/Yマッピング
- 自動化インターフェース
アプリケーションギャラリー
残留応力解析
2D検出器を用いたμXRD
結晶相定性: Phase ID
ハイスループットスクリーニング (HTS)
雰囲気制御 XRD
小角X線散乱 (SAXS)
広角X線回折 (WAXD)
結晶配向解析
X線反射率測定 (XRR)
高分解能X線回折 (HRXRD)
ウェハーマッピング・X/Yマッピング
逆格子空間マッピング (RSM)
仕様
D8 DISCOVER 仕様
| 仕様 | 利益 | |
| TWIST-TUBE | ライン焦点とポイント焦点の迅速な切り替え機構 対応波長: Cr, Co, Cu, Mo, Ag 最大印加出力: 3 kW (波長による。フィラメントサイズ: 0.4×12 ㎜²時) 特許: EP 1 923 900 B1 |
異なるアプリケーションに最適なX線波長を迅速に交換 広いアプリケーションに最適な結果をもたらすライン焦点とポイント焦点を高速に切り替え |
| マイクロフォーカスX線源 IμS | 最大印加出力: 50 W MONTELまたはMONTELPlus光学系: 平行ビームまたは集光ビーム 最小ビームサイズ: 180×180 μm2 最大フラックス: 8×10⁸ cps (多層膜ミラー出口) 最小ビーム発散角: 0.5 mrad |
高い輝度と低いバックグラウンドを両立するmmサイズビーム 低消費電力、完全空冷、長寿命を実現するグリーンデザイン 最高の結果に導く最適なビーム形状とビーム発散 |
| TURBO X-RAY SOURCE (TXS) | 微小ライン焦点: 0.3×3 mm² 焦点輝度: 6 kW/ mm² 対応波長: Cr, Co, Cu, Mo 最大印加電圧: 50 kV、最大印加出力は波長による (Cr: 3.2 kW, Cu / Mo: 5.4 kW, Co: 2.8 kW) フィラメント: プリアラインタングステン |
セラミックス封入管球比 最大5倍の強度 ラインビームおよびポイントビームアプリケーションに最適 速やかな交換と光学系再調整を最小化するプリアラインフィラメント |
TRIO光学系 |
ソフトウェアPush-Button切り替え: 電動可変発散スリット (Bragg-Brentano集中法光学系) 高強度平行ミラー (Kα1,2平行ビーム光学系) Ge(004) 2結晶モノクロメーター (Kα1高分解能平行ビーム光学系) 特許: US10429326, US6665372, US7983389 |
電動モーター制御により3つの発散スリットモードと2つの平行ビーム光学系の完全自動切り替え 非晶質、結晶質、エピタキシャル薄膜にかかわらず、粉末サンプル、バルクサンプル、繊維サンプル、フィルムサンプル、薄膜サンプルなどのあらゆるサンプルに最適 |
| 高分解能結晶モノクロメーター | Ge(220)およびGe(004) (非対称カット、対称カット) 2結晶モノクロメーターおよび4結晶モノクロメーター (Bartels配置) SNAP-LOCK機構により載せ替え時の光学系アライメント不要 |
最適な結果に応じた分解能と強度のバランス 異なるサンプルタイプに幅広く対応する迅速なモノクロメーター交換機構 |
| D8ゴニオメーター | 光学エンコーダー付ステッピングモーター制御2軸ゴニオメーター | Bruker独自のアライメント保証により、他に類を見ない精度と確度を実現 メンテナンスフリードライブ機構 |
| UMCサンプルステージ | 最大X/Y並進軸可動範囲: ± 150 mm 最大Z並進軸可動範囲: 50 mm 最大Phi回転軸可動範囲: 無制限 最大Psi傾斜軸可動範囲: -5° ~ +55° 最大荷重: 50 kg (中心位置のみ) |
サンプル重量とサンプルサイズを最大限拡張可能 オーダーメイドの大型サンプルチャンバーなどにも対応 |
| Centricユーレリアンクレードル | 最大X/Y並進軸可動範囲: ± 40 mm 最大Z並進軸可動範囲: 3 mm 最大Phi回転軸可動範囲: 無制限 最大Psi傾斜軸可動範囲: -11° ~ +98° 最大荷重: 1 kg 各種サンプルホルダーに対応 |
Psi傾斜軸を用いた残留応力測定や極点図測定に対応 X/Y軸を用いた自動マッピング機能 2軸制御TILT STAGEによる精緻な表面アライメント (オプション) 粉末X線回折用サンプルスピナー / キャピラリースピナー |
| PATHFINDERPlus光学系 | 自動減衰板搭載 ソフトウェアPush-Button切り替え: 電動可変スリット Ge(220) 2結晶アナライザー |
電動モーター制御により2つの光学系の完全自動切り替え LYNXEYE検出器シリーズ、EIGER2検出器対応 |
| LYNXEYE XE-T検出器 | 最高エネルギー分解能: < 380 eV @ 8 keV (25°C、半値幅) 検出モード: 0D, 1D, 2D 対応波長: Cr, Co, Cu, Mo, Ag 特許: EP1647840, EP1510811, US20200033275 |
Bragg-Brentano集中法光学系、POLYCAP平行ビーム光学系においてKβフィルターや受光側モノクロメーターは不要 Cu波長では鉄系サンプルからの蛍光X線を100%除去可能 従来の0次元検出器搭載システムと比較して、最大450倍高速測定を実現 Bragg-2D: 発散ラインビームを用いた2D回折パターン記録 検出器保証: 不感素子なし (納品時) |
| EIGER2検出器 | 最新のハイブリッドフォトンカウンティング (HPC)技術にもとづくマルチモード検出器 (0D / 1D / 2Dモード) | 0D, 1D, 2D検出モードを用いたスナップショット、ステップスキャン、連続スキャン、アドバンスドスキャンのシームレスな統合 2θまたはγ方向の記録領域を最大化する人間工学にもとづいた検出器搭載方向切り替え機構 パノラミック光学系は工具を用いることなく広い回折情報の記録を実現 自動検出機距離認識機構により、測定目的に応じて測定記録範囲と角度分解能のバランスを両立 |
| 雰囲気制御アタッチメント | 制御温度範囲: -260 °C ~ +2000 °C 制御圧力範囲: 10-⁴ mbar ~ 100 bar (7.5×10-⁴ Torr ~ 7.5×10⁴ Torr) 制御湿度範囲: 5% ~ 95% (相対湿度) |
大気雰囲気および雰囲気制御下における分析 DIFFRAC.DAVINCIによるステージモニターと制御 |
アクセサリー
XRD Components
Bruker XRD solutions consist of high performance components configured to meet the analytical requirements. The modular design is the key to configure the best instrumentation.
All categories of components are part of Bruker’s key competence, developed and manufactured by Bruker AXS, or in close cooperation with third party vendors.
Bruker XRD components are available for upgrading the installed X-ray systems for improving their performance.
ソフトウェア
ウェビナー
詳細
D8 DISCOVER リソース
カタログとラボレポート
アプリケーションノート、レポート、プロダクトシート
- Rapid XRD Analysis of Pharmaceuticals: Snapshot 1D and 2D Mode with the EIGER2 R 500K
- Large-Area RSM with the EIGER2 R 500K: Analysis of InxGa1-xN LED, GaAs and Si1-xGex epitaxial films
- μXRD in Geology with EIGER2 R 500K: In-Situ Study of Lazulite from Graves Mountain, Georgia, USA
- Residual Stress with EIGER2 R 500K: 0D, 1D, and 2D investigation of a polycrystalline tungsten coating on silicon
- Texture Analysis with EIGER2 R 500K and DIFFRAC.TEXTURE: Investigation of Rolled and Drawn Aluminum Sheets
- D8 DISCOVER with IμS, μXRD Phase mapping
- D8 DISCOVER with IμS Microfocus Source, In-Plane Grazing Incidence Diffraction (IP-GID)
- D8 DISCOVER with IμSHigh Brilliance Microfocus Source, X-Ray Reflectometry
- D8 DISCOVER with IμSHigh Brilliance Microfocus Source, Powder Diffraction
- D8 DISCOVER with PILATUS3 R 100K-A, 2D RSM of Thin Films
- D8 DISCOVER with PILATUS3 R 100K-A, 2D GI-SAXS
- D8 DISCOVER with PILATUS3 R 100K-A, micro XRD2 of Quartz Monzonite
- D8 DISCOVER with PILATUS3 R 100K-A, XRD2 of Polymers
- D8 DISCOVER with PILATUS3 R 100K-A, Texture Analysis with XRD2
- D8 DISCOVER with PILATUS3 R 100K-A, Residual Stress Analysis with XRD2
- Universal Motion Concept and Eulerian Cradles for Controlled Sample Positioning
- EIGER2 R 500K for the D8 Family
サポート
Service & Support
We provide:
- Help desk support from highly-skilled troubleshooting professionals, to isolate and resolve hard- and software problems
- Web-based remote instrument service for service diagnosis and applications support
- Merged reality support – a virtual engineer at your side (video)
- Planned maintenance, according to your requirement
- Customer on-site repair and maintenance service
- Spare parts availability typically over night or within a few working days worldwide
- Compliance services for installation qualification, operational qualification / performance verification
- Site planning and relocation
Check out our support website for:
- Software updates
- Product manuals & installation guides
- Training videos
Registration required.
