弊社の「SE(自動卓上分光エリプソメーター)」製品ラインの基本モデルである FilmTek™ SEは、さまざまな薄膜および極薄膜サンプルについて、高精度で再現性の高い測定を迅速かつ容易に行うための合理化されたオプションをユーザーに提供します。
FilmTek SEは、単一点測定に対応した卓上型分光エリプソメーターです。オプションとして、手動または自動のXYステージを搭載できます。ボタンをクリックするだけで、数千の波長データを数秒で同時収集でき、統合されたオートフォーカス機能により、従来のエリプソメーターで必要とされる煩雑なサンプルアライメント作業が不要になります。さらに、当社独自の分散式とフィルムモデリングソフトウェアにより、データ処理が容易になり、正確かつ精密なリアルタイム結果を得ることができます。
以下の項目を同時に測定可能:
標準:
1Å未満から約150µmまでの厚さの半透明フィルムをほぼすべて、高精度で測定できます。
特に学術研究や研究開発の環境では、お客様の独自のニーズを満たすために、柔軟にハードウェアとソフトウェアを変更することができます。
代表的な応用分野には以下が含まれます :
| 膜厚範囲 | 0 Å~50 µm |
|---|---|
| 膜厚精度 | ±1.0 Å(NISTトレーサブル標準酸化膜 100 Å から 1 µm) |
| スペクトル範囲 | 380 nm~950 nm |
| 測定スポットサイズ | 3 mm |
| サンプルサイズ | 2 mm ~ 300 mm(標準150 mm) |
| スペクトル分解能 | 0.3 nm |
| 光源 | 安定化ハロゲンランプ(寿命10,000時間) |
| 検出器タイプ | 2048ピクセルソニーリニアCCDアレイ |
| コンピュータ | Windows™ 11オペレーティングシステム搭載のマルチコアプロセッサ |
| 測定時間 | 1箇所あたり約2秒(例:酸化膜) |
| 膜種 | 膜厚 | 測定パラメータ | 精度(1σ) |
|---|---|---|---|
| Oxide / Si | 0 - 1000 Å | t | 0.03 Å |
| 1000 - 500,000 Å | t | 0.005% | |
| 1000 Å | t , n | 0.2 Å / 0.0001 | |
| 15,000 Å | t , n | 0.5 Å / 0.0001 | |
| 150.000 Å | t , n | 1.5 Å / 0.00001 | |
| Nitride / Si | 200 - 10,000 Å | t | 0.02% |
| 500 - 10,000 Å | t , n | 0.05% / 0.0005 | |
| Photoresist / Si | 200 - 10,000 Å | t | 0.02% |
| 500 - 10,000 Å | t , n | 0.05% / 0.0002 | |
| Polysilicon / Oxide / Si | 200 - 10,000 Å | t Poly , t Oxide | 0.2 Å / 0.1 Å |
| 500 - 10,000 Å | t Poly , t Oxide | 0.2 Å / 0.0005 |
ブルカーはお客様と協力し、実世界のアプリケーション課題を解決します。次世代技術を開発し、お客様が適切なシステムとアクセサリーを選択できるようサポートします。このパートナーシップは、機器販売後もトレーニングや延長サービスを通じて継続します。
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