FilmTek 2000
FilmTek 2000
FilmTek™ 2000はほぼあらゆる非パターン薄膜を、迅速・高信頼・高精度に特性評価できるよう設計された、完全自動ステージ搭載の卓上型分光反射率計です。完全にカスタマイズ可能なウエハマッピング機能により、任意の測定パラメータについて 2Dおよび3Dのデータマップを高速に作成できます。1サイトあたり1秒未満で、複数の膜特性を同時に測定することが可能です。また、透過測定機能を追加することでFilmTek 3000へ拡張できます。FilmTek 3000は反射・透過分光光度計を組み合わせたモデルで、透明基板上に形成された非パターン膜の反射・透過の両方を効率的かつ高精度に評価できます。この構成は、極薄の吸収膜の膜厚および光学定数の測定に特に適しています。
測定機能
以下の項目を同時に測定可能：
- 多層膜の厚さ
- 屈折率 [ n(λ) ]
- 消衰（吸収）係数 [ k(λ) ]
- エネルギーバンドギャップ [ Eg ]
- 組成（例：SiGexにおける%Ge、GaxIn1-xAsにおける%Ga、AlxGa1-xAsにおける%Alなど）
- 表面粗さ
- 構成成分、ボイド率
- 結晶化度/アモルファス化度（例えばPoly-SiやGeSbTe膜の結晶化度）
- 膜厚分布
システム構成
標準：
- 深紫外-近赤外光ファイバー分光光度計
- 分光反射測定
- 自動ステージ
- 先進的な材料モデリングソフトウェア
- 高度で広範囲の最適化アルゴリズムを備えたブルカーの広範な材料モデル
活用分野
100Å未満から約150µmまでの厚さの半透明フィルムは、ほぼすべて高精度で測定できます。代表的な応用分野には以下が含まれます:
- 化合物半導体
- LED/OLED
- 太陽電池
特に学術研究や研究開発の環境では、お客様の独自のニーズを満たすために、柔軟にハードウェアとソフトウェアを変更することができます。
FilmTek 2000の選べる仕様
ウエハ製造施設や半導体ファブには、それぞれ固有の要件や課題がございます。当社の製品仕様やサービスがお客様のお役に立てる点につきましては、担当者より詳しくご説明申し上げます。お客様の課題解決に向けて、ぜひご一緒に最適な形をつくり上げていければと存じます。
技術仕様
| 膜厚範囲 | 5 nm～150 µm |
|---|---|
| 膜厚精度 | ±1.5 Å（NISTトレーサブル標準酸化膜 1000 Å から 1 µm) |
| スペクトル範囲 | 190 nm ～ 1700 nm（標準240 nm ～ 1000 nm） |
| 測定スポットサイズ | 2 mm ～ 5 mm（標準5 mm） |
| サンプルサイズ | 2 mm - 300 mm（標準150 mm） |
| スペクトル分解能 | 0.3 - 2 nm |
| 光源 | 重水素ハロゲンランプ（寿命2,000時間） |
| 検出器タイプ | 2048ピクセルソニーリニアCCDアレイ/512ピクセル冷却浜松ホトニクスInGaAs CCDアレイ（NIR） |
| コンピュータ | Windows™ 11オペレーティングシステム搭載のマルチコアプロセッサ |
| 測定時間 | 1箇所あたり1秒未満（例：酸化膜） |
| データ取得時間 | 0.2秒 |
性能仕様
| 膜種 | 膜厚 | 測定パラメータ | 精度（1σ） |
|---|---|---|---|
| Oxide / Si | 200 - 500 Å | t | 0.5 Å |
| 500 - 10,000 Å | t | 0.25 Å | |
| 1000 Å | t , n | 0.25 Å / 0.001 | |
| Nitride / Si | 200 - 10,000 Å | t | 0.25 Å |
| Photoresist / Si | 200 - 10,000 Å | t | 0.5 Å |
| a-Si / Oxide / Si | 200 - 10,000 Å | t | 0.5 Å |
どのようなお手伝いが必要ですか？
ブルカーはお客様と協力し、実世界のアプリケーション課題を解決します。次世代技術を開発し、お客様が適切なシステムとアクセサリーを選択できるようサポートします。このパートナーシップは、機器販売後もトレーニングや延長サービスを通じて継続します。
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