원자력 현미경

치수 HPI

가장 생산적인 산업용 R&D AFM

하이라이트

치수 HPI

대량의 생산 환경을 위해 특별히 설계된 Dimension HPI 시스템은 많은 AFM 모드의 자동화된 측정을 가능하게 하는 동시에 품질 관리, 품질 보증 및 고장 분석을 위해 측정당 최대한의 사용 편의성과 측정당 최저 비용을 보장합니다. 치수 HPI는 접촉, 도청 및 PeakForce 태핑 모드 기술을 사용하여 사용자가 프로브 대 샘플 상호 작용을 정밀하게 제어할 수 있게 해주며, 높은 정확도로 긴 팁 수명을 제공하여 수천 개의 측정을 수행할 수 있습니다.

혁신적인
피크포스 태핑
샘플 보호, 확장된 프로브 수명 및 가장 일관된 측정을 위해 프로브의 측면 힘을 최소화합니다.
독점적인
FastScan AFM 프로브
측정당 최저 비용을 제공하고 가장 신뢰할 수 있는 데이터를 보장합니다.
사용하기 쉬운
자동화된 소프트웨어
모든 사용자를 AFM 전문가로 만들고 연산자 간 일관성을 보장합니다.

특징

기능

가장 넓은 범위의 측정

전용 PeakForce 태핑 모드에서 기존 AFM 모드에 이르기까지 Dimension HPI는 AFM 연구 설정과 관련된 복잡성 없이 광범위한 샘플에서 특정 제조 계측 요구를 충족할 수 있는 가장 큰 범위와 유연성을 제공합니다.

빠른 나노 전기 계측

전도성-AFM(CAFM)을 갖춘 FastScan 기술은 높은 스캔 속도로 나노 스케일 전류 측정을 수행할 수 있어 고장 분석 측정의 효율성을 크게 높일 수 있습니다. FastScan HPI는 소형 자기력 현미경 검사법(MFM) 캔틸레버를 사용하여 PeakForce 태핑을 사용하여 뛰어난 데이터 품질을 갖춘 MFM 애플리케이션에 대해 10배 이상의 스캔 속도 향상을 제공합니다. PeakForce KPFM™ 표면 전위의 가장 높은 공간 해상도와 가장 정확한 측정을 제공합니다. 피크포스 TUNA™ 가장 민감한 전도도 측정을 제공합니다.

정밀한 나노 기계 매핑

브루커의 고유한 PeakForce QNM 및 FastForce 볼륨™ 나노스케일 기계 매핑 모드는 계금, 강성, 접착, 분리 및 변형과 같은 기계적 특성을 정확하게 매핑하는 동시에 샘플 지형 및 전기 적 특성을 이미징할 수 있습니다. PeakForce QNM은 송전 전자 또는 스캐닝 전자 현미경 검사 기법에 의해 측정할 수 없는 폴리머, 박막 및 나노 스케일 결함에 대한 비파괴적 측정을 가능하게 합니다.

Powered by the NanoScope 6 AFM Controller


Featuring higher speeds, lower noise, and greater AFM mode flexibility, the NanoScope 6 controller allows users to harness the full potential of our high-performance Dimension and MultiMode AFM systems. This latest generation controller provides unprecedented accuracy, precision, and versatility for nanoscale surface measurements in every application.

NanoScope 6 uniquely enables Bruker AFMs to:

  • Operate in more imaging modes than is possible with competing systems, including unique and advanced AFM modes that require complex control and analysis;
  • Collect accurate, quantitative data for nanoelectrical and nanomechanical property measurements in every application; and
  • Optimize and customize scanning parameters to meet even the most demanding research and industry measurement requirements.

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