光罩修复方案

Rhazer-III

第三代去雾系统(Haze Removal System)

产线上的光罩雾化缓解与去除

Rhazer III

布鲁克Rhazer-III®系统是专门为晶圆制造厂设计的,引入了创新的清洁与干燥技术,有效实现晶圆生产过程中的雾度消除与管理。采用这一先进技术,不仅能提升产品品质,还能确保生产的高效性和稳定性,是您理想的晶圆制造伙伴。

干法,基于激光技术
穿透薄膜破坏晶体生长
利用间接热分解,覆盖膜下的整个光罩区域。
与颗粒大小无关
分解机制并不受缺陷吸收截面的影响,确保了在加工区域内彻底清除所有的晶核形成位点。
不会降解光罩材料
不会改变关键尺寸、相位或传输性能。不会损坏敏感的几何图形 (SRAFs, ,光学辅助功能等.)
去除常规晶体缺陷
Rhazer工艺通常去除硫酸铵(ammonium sulfate)、碳酸铵(ammonium carbonate)和草酸铵(ammonium oxalate)缺陷。
Through-Pellicle
micro-contamination removal
Breaks down crystalline growth via indirect thermal decomposition.
Eco-Friendly
haze-removal technology
Uses no harmful effluents and has low energy consumption.
In-Fab
mask processing
Enables reticles to be cleaned without leaving the fab line.
Preventative
haze-mitigating storage
Necessitates fewer cleans and integrates management capability.
Features

光致缺陷修理(减轻雾化)

光致微污染(雾化现象)在光罩产业已成为一个日益普遍且成本高昂的问题。尽管最新的湿法清洗技术及环境控制手段能在一定程度上延缓晶圆曝光过程中的雾化形成速度,但它们并未展现出能够彻底预防雾化的潜力。为此,Bruker 推出了创新性的 Rhazer-III® 系统——专门为晶圆制造厂量身定制,以实现高效、即时的雾化消除与管理。

Bruker Rhazer-III® 系统采用无接触、无水的清洁方式,不仅避免了因移除保护膜带来的复杂操作,还能确保在不对光罩吸收层造成任何损伤的前提下进行处理,同时保持原有的光学性能不变,包括相位、透光率及关键尺寸等重要参数。这意味着您可以在不影响生产流程的情况下,根据实际需要随时对掩模板进行清洁维护,从而大幅提升生产效率与产品可靠性。

主要性能特点

Increased Lithography Line Efficiency:

  • Dry process - no pellicle removal
  • Fast turnaround - full reticle clean
  • Full control - retcles never leave the wafer fab
  • Fewer cleans - no haze formation in storage
 

Fully Automated Operation:

  • SMIF & Overhead Track compatible; RFID/OCR/Barcode readers
  • SECS/GEM compatible
  • Robotic handling including mask flipper
  • Easy to operate; highly user friendly GUI

 

Extends Mask Lifetime:

  • No absorber damage
  • No CD, phase or transmission variance
  • No added chemical residues
  • No limit to number of cleans

Wafer Fab Cost Savings:

  • Less wasted scanner downtime waiting for masks
  • Very low cost mask cleans
  • Fewer duplicate masks needed
  • Extended interval between defect inspections
  • Reduced haze-related wafer losses
 

"Green" Technology:

  • No acids, solvents or de-ionized water
  • No harmful effluents or waste management
  • Low energy consumption (7kW @ 208V AC)
  • Small system footprint (1.24m x 2.31m)

Results

Contact Us

Input value is invalid.

* 请填写必填字段。

请输入您的姓名
请输入您的姓氏
请输入有效的电子邮件地址
请输入您的公司/机构

    

请输入有效的电话号码

🛈    方便我们及时回复

请输入有效的电话号码

🛈    方便我们及时回复

请输入有效的电话号码

🛈    方便我们及时回复

请输入有效的电话号码

🛈    方便我们及时回复

是否订阅电子邮件,以便收到网络研讨会邀请、产品公告和近期的活动。
请接受条款和条件

            隐私声明使用条款