FilmTek 2000M
微小スポット平行ビーム技術を搭載した分光反射率測定システムは、ミクロンサイズのデバイス機能上の薄いフィルムから非常に厚いフィルムまで、多用途な膜厚測定に対応します。
FilmTek 2000M
FilmTek 2000M™ は、1 x 2 µmという小さな測定スポットサイズ、ほぼ平行なビームを提供します。このアプローチにより、薄膜から極厚膜まで、正確な非接触測定が可能です。自動ウエハ処理、1D/2Dバーコードスキャナー、パターン認識により、デバイスウエハ全体に直接測定を行うことができ、限られたサンプルエリアから広範囲の性能を推測する必要がなくなります。
超厚膜
サンプルへの適応性
他のシステムでは測定不可能な厚みのサンプルでも、正確な特性評価が可能
マイクロスポット
光学設計
最小2μmの小さな測定スポットサイズを実現
多用途
分光反射率計
さまざまな応用分野において幅広い種類のフィルムや厚みの測定が可能
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測定機能
以下の項目を同時に測定可能：
- 多層膜の膜厚
- 屈折率 [ n(λ) ]
- 消衰（吸収）係数 [ k(λ) ]
- エネルギーバンドギャップ [ Eg ]
- クリティカルディメンション（CD）測定
システム構成
標準：
- 分光反射率測定
- 膜厚範囲：5nm～350µm
- スポットサイズ：2µm（5×10µmが標準）
- オートフォーカス機能付き自動ステージ
- 測定位置観察カメラ
- パターン測定
- 高度な材料モデリングソフトウェア
- 高度で広範囲の最適化アルゴリズムを備えたブルカーの広範な材料モデル
オプション：
- 自動ウエハ処理
- SECS/GEM
活用分野
医療用センサーおよびデバイス
バイオアクティブフィルムの正確な厚さ測定により、医療用デバイスおよびセンサーの品質、生産安定性、製品性能を向上させます。
FilmTek薄膜測定システムは、グルコースセンサーの薄膜厚さの自動非接触測定とウエハマッピング、金属JAW表面コーティング厚さのマッピング、使い捨て血液センサー多層膜の厚み測定を可能にします。
その他の代表的な応用分野には以下が含まれます。
- ウエハ/CD計測
- 化合物半導体
- データストレージ
- フラットパネルディスプレイ
技術仕様
| 膜厚範囲 | 5 nm ～ 350 µm （5 nm ～ 150 µm が標準） |
|---|---|
| 膜厚精度 | ±1.5 Å （NIST 準拠の標準酸化膜1000 Å ～ 1 µmの場合） |
| スペクトル範囲 | 380 nm ～ 1700 nm （380 nm ～ 1000 nm が標準） |
| 測定スポットサイズ | 2 µm（10x対物レンズ使用時は5x10 µmが標準） |
| サンプルサイズ | 2 mm - 300 mm（150 mmが標準） |
| スペクトル分解能 | 0.3 - 2 nm |
| 光源 | 安定化ハロゲンランプ（寿命2,000時間） |
| 検出器タイプ | 2048ピクセルソニーリニアCCDアレイ/512ピクセル冷却浜松ホトニクス |
| コンピュータ | Windows™ 11オペレーティングシステム搭載マルチコアプロセッサ |
| 測定時間 | 1箇所あたり1秒未満（例：酸化膜） |
性能仕様
| Film(s) | Thickness | Measured Parameters | Precision (1σ) |
|---|---|---|---|
| Oxide / Si | 500 - 1000 nm | t | 0.025 nm |
| 1 - 150 µm | t | 0.005% |
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