Semiconductor Metrology JVX7300

JVX7300LSI

半導体材料のインファブ研究開発およびインライン製造プロセスモニタリングductors materials

JVX7300LSIは、半導体材料のインファブR&Dおよびインライン製造プロセスモニタリング用に設計されています。これにより、半導体業界における多くの先進的な材料の完全自動化が可能になります。標準構成は、スキャンHRXRD、XRR、XRD、GI-XRD、WA-XRDを実装したJVX7300Lです。完全に自動化された光源光学系を搭載しているため、同じレシピバッチ内であっても、ユーザーの介入なしに標準XRD、高分解能、X線反射モードを切り替えることができます。アライメント、測定、分析、レポートの完全自動化により、薄膜の生産性と高速のキャラクタリゼーションが保証されます。オプションのIチャネルを追加すると面内XRD測定が可能です。

JVX7300 family v1
JVX7300lsi blue image v3

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パターン済みウェーハのHRXRD測定のためのS-チャネルへのアップグレード


パターンウェーハのHRXRDについては、Sチャネルを追加することができます。これにより、フルパターン認識と同時に50μm×50μmの高分解能の微小ビームを試料に照射しパターンウェーハ上のテスト構造の測定が可能になります。

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主な用途:


  • エピ層を含むFinFETのキャラクタリゼーション
  • 将来のノード開発のためのSi上のIII-V
  • パワートランジスタ用Si上GaN
  • High-K膜の厚さ、密度および結晶性

すべてのアプリケーションは、包括的な分析ソフトウェアによってシミュレーション、及びフィッティング解析が行えます。

JVX7300lsi graph v2