낮은 kV EBSD를 매우 높은 속도로
전자 후방 산란 회절(EBSD)은 대량 시료의 미세 구조와 결정학적 텍스처를 정량화하는 SEM 기반 기술로 널리 사용되고 있습니다. 획득 속도와 감도는 모든 EBSD 시스템의 성능을 결정하는 주요 파라미터입니다. 이 두 파라미터는 생산성 극대화뿐만 아니라 데이터 품질과 무결성 향상에도 결정적 역할을 합니다. 예를 들어, 인식률 증가와 빔 불안정성의 영향 감소 등이 이에 해당됩니다.
직접 전자 검출(DED) 기반 EBSD 검출기는 기존의 검출기보다 신호 효율성이 현저히 높습니다. 지금까지 이러한 기존의 방식은 속도 측면에서는 성능이 부족했습니다.
Bruker의 eWARP 검출기는 직접 전자 검출과 CMOS 기술을 결합하여 검출기 감도와 EBSD 분석 속도의 한계를 넘어서는 혁신적인 EBSD 검출기입니다. eWARP는 중간 수준의 빔 전류와 가속 전압을 사용하며 초당 최대 14,400 프레임의 EBSD 맵을 획득할 수 있습니다.
이 예시에서 10kV 가속 전압과 12 nA 빔 전류를 사용해 듀플렉스 스테인리스 강철에서 EBSD 맵핑을 18초 만에 획득했습니다. 초당 14,400개 이상의 패턴이 획득되고 색인화되었습니다. 데이터필터링 없이 이 분석의 인식률은 98.5%였습니다. 분석된 영역에는 평균 직경 33µm의 1,525개 입자가 포함되어 있습니다. 입자는 ASTM E2627에 따라 검출되었습니다. 듀플렉스 강철 시료는 페라이트와 오스테나이트가 동일한 비율로 구성되어 있으며, 페라이트 입자는 탄성 변형의 흔적을 보인 반면 대부분의 오스테나이트 입자는 완전히 재결정화되었습니다.
