eWARP TKD: 초고속 & 고해상도 투과식 Kikuchi 회절

eWARP TKD는 수상 경력에 빛나는 eWARP 검출기 제품군의 최신 모델로, 브루커의 최첨단 Wide ARea Pixelated (WARP) 센서 기술을 기반으로 하며, 투과식 키쿠치 회절(TKD)을 위해 특별히 설계되었습니다.

eWARP를 통해 당사의 독창적인 WARP 센서는 전례 없는 공간 분해능과 초고속 매핑 속도 등을 바탕으로 EBSD의 새로운 시대를 열었습니다. 동일한  WARP 기술을 활용하는 eWARP TKD는 TKD(투과형 EBSD라고도 함)의 한계를 재정의하며, 고해상도 나노 결정립 분석에 새로운 가능성을 열어주고 있습니다.

이 시스템의 핵심은 162 × 162 픽셀을 갖추고 유효 영역이 26 × 26 mm²를 초과하는 새로 개발된 픽셀화 센서입니다.

eWARP TKD는 주사전자현미경(SEM)에서 “축상(on-axis)” 시료 검출기 기하 구조를 사용하여 나노 결정립 특성을 분석하기 위해 특별히 설계되었습니다. eWARP TKD는 타의 추종을 불허하는 감도, 속도, 공간 분해능을 바탕으로 모든 주요 지표에서 기존 솔루션을 능가합니다.

eWARP TKD는 당사의 QUANTAX EBSD  분석 시스템용 검출기입니다.

eWARP TKD는 SEM에서의 나노 결정립 특성 분석을 재정의하며, 나노 결정립 연구를 수행하는 연구자 및 엔지니어에게 다음과 같은 강력한 이점을 제공합니다:

• 대폭 향상된 생산성: eWARP TKD는 최대 5,700 fps의 속도로 1~5분 이내에 고품질의 방향성 및 상 매핑맵을 제공합니다.
• 타의 추종을 불허하는 공간 분해능: 고성능 FE-SEM과 결합된 eWARP TKD는 2 nm보다 뛰어난 공간 분해능으로 매핑을 수행합니다.
• 번개처럼 빠른 통합 Dark Field (DF)와 Bright Field (BF) 이미징: eWARP의 특허받은 on-chip binning 기술을 통해 구현됩니다.
• In-situ 실험 중 시간 변화 추적 매핑: 몇 초 간격으로 매핑과 이미지를 신속하게 획득하여, in-situ heating 및 기계적 시험 중 미세 구조 변화를 실시간으로 포착합니다.
• 드리프트 보정 불필요. 아티팩트 최소화: 낮은 빔 요구 사항과 초고속 매핑 덕분에 eWARP TKD는 드리프트 보정이 불필요하며, 드리프트로 인한 아티팩트가 최소화된 매핑을 측정합니다.
• 민감한 시편을 위해 설계: 뛰어난 신호 효율 덕분에 빔에 민감한 재료에 대해 낮은 전류, 낮은 가속전압으로 TKD 매핑이 가능합니다.

그림 1은 15nm 금 박막(평면 뷰)에서 2nm 간격으로 획득한 매우 큰 방향성 매핑(IPFz)을 보여줍니다. 삽입 그림은 50nm 미만의 모든 결정립에 대한 결정립 직경 크기 분포(왼쪽 상단)와 강조 표시된 영역을 확대한 모습(오른쪽 상단)을 보여줍니다.

데이터 정제 처리는 전혀 적용되지 않았으며, 5픽셀 미만의 결정은 히스토그램 및 통계 분석에서 제외되었음을 유의하시기 바랍니다(약 5 nm 부근 데이터의 잘린 부분 참조).

• 매핑 크기: 4.3 M픽셀 / 5.1 µm x 3.9 µm
• 픽셀 크기: 2 nm
• 인덱싱 비율: 92.5%
• 속도: 2873 fps
• 총 매핑 시간: 25분 13초
• 가속 전압: 30 kV
• 프로브 전류: 2 nA
• 50 nm 미만의 입자 수: 107,993
• 평균 입자 직경: 21.2 nm

이번 출시 웨비나에서 eWARP TKD의 획기적인 기술을 살펴보고, 이 기술이 나노 결정립 특성 분석을 어떻게 재정의하고 있는지 확인해 보십시오.

탁월한 신호 효율과 최대 5,700 fps에 달하는 획득 속도가 어떻게 단 몇 분 만에 고품질의 방향성 및 상 매핑을 생성하여 나노 규모에서의 분석능력을 확인해 보십시오.