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Nanoskalige Infrarotspektroskopie

Fehleranalyse und Materialcharakterisierung

Eine komplette nanoskalige FTIR-, nanoskalige chemische Bildgebung und Materialcharakterisierungsplattform

Fehleranalyse und Materialcharakterisierungsgruppen in Industrieunternehmen konzentrieren sich auf die Lösung von Problemen, um die Prozessentwicklung zu verbessern und prozessbezogene Probleme zu lösen, um ihrer Organisation zu helfen, Kosten zu sparen und den Umsatz zu steigern.

Die nanoIR3-s bietet eine komplette nanoskalige FTIR,nanoskanische chemische Bildgebung und Materialcharakterisierungsplattform. Es kombiniert zwei komplementäre nanoskalige IR-Techniken, AFM-IR und Streusung SNOM gekoppelt mit AFM-basierte Materialien Eigenschaft Mapping. Die nanoIR-Plattformen sind produktiv und zuverlässig und bringen Sie innerhalb eines Tages produktiv. Zu den Anwendungen gehören:

  • Nanoorganische Verunreinigungen
  • LowK-Dielektrika
  • Halbleitermaterialien
  • Datenspeichermedien und Folie

Organische Nanokontaminanten sind ein ernstes Problem der Defektfähigkeit für Halbleiter- und Datenspeicherunternehmen, bei denen aktuelle Charakterisierungstechniken nur begrenzte Fähigkeiten aufweisen. Dieser Hinweis beschreibt die Anwendung des nanoIR3 auf die Messung solcher Defekte und anderer Halbleitermaterialien. Das nanoIR3-System basiert auf einer wissenschaftlichen bahnbrechenden Technik, IR-Spektren mit räumlichen Auflösungen bis zu 10 nm zu erwerben, die es Forschern ermöglicht, nanoskalige chemische Fingerabdrücke ihres Materials zu erhalten.

Die spektren, die mit der patentierten AFM-IR-Technik von Anasys Instruments erzeugt werden, korrelieren direkt mit herkömmlichen FTIR-Spektren und sind damit mit Standard-FTIR-Bibliotheken vergleichbar. Neben der chemischen Analyse bietet der nanoIR3 ergänzende mechanische, elektrische, thermische und strukturelle Eigenschafteninformationen mit nanoskaliger räumlicher Auflösung.