Le Dimension FastScan Pro offre la vitesse et les performances métrologiques les plus élevées de tous les AFM industriels disponibles aujourd'hui. Le système permet des mesures automatisées ou semi-automatisées tout en garantissant la plus grande facilité d'utilisation et le plus faible coût par mesure pour le contrôle qualité, l'assurance qualité et l'analyse des défaillances.
Le système FastScan Pro utilise une plateforme à accès ouvert, des porte-échantillons de grande taille ou multiples ainsi que de nombreuses fonctions de facilité d'utilisation afin de fournir une métrologie nanométrique flexible et performante pour les applications industrielles d'AQ, de CQ et de FA. Le système fournit des mesures automatisées de plaques de 2 à 12 pouces pour les semi-conducteurs, le stockage de données et les HB-LED. Il présente une trajectoire XY accrue de l'échantillon pour un accès complet aux wafers de 200 mm et aux échantillons multiples dans une zone de 200 mm de diamètre, avec des mandrins optionnels pour les wafers de 300 mm. Le système offre également le choix entre un scanner FastScan 5-10x à haut débit pour la topographie, la rugosité et d'autres analyses métrologiques, ou un scanner Icon avec une plage de balayage de 90 µm pour des balayages plus larges et des performances de topographie de haute précision.
Le logiciel complet AutoMET™ offre une métrologie rapide et automatisée, un fonctionnement simple et une adaptabilité AFM pour une saisie facile des mesures critiques de qualité exigées dans le domaine de la production. Ce logiciel permet d'effectuer des mesures automatisées sur plusieurs échantillons ou un seul grand échantillon destiné à la caractérisation à l'échelle nanométrique sur plusieurs sites. Il permet également la reconnaissance de motifs d'images optiques et AFM, le centrage des pointes, la prise en charge de la cartographie complète de la tranche ou de la grille, et la précision du positionnement des images à quelques dizaines de nanomètres près. La rédaction de recettes complètes, mais simples, permet aux utilisateurs avancés d'utiliser le logiciel en temps réel et hors ligne.
Cette technologie unique permet d'appliquer une force précise à n'importe quel atome de votre échantillon. Ce contrôle précis de la sonde par rapport à l'échantillon permet d'utiliser la plus large gamme d'échantillons, allant des polymères mous, des films minces et des échantillons électriques jusqu'aux matériaux durs. Il permet également d'obtenir les forces d'imagerie les plus faibles et de prolonger la durée de vie de la pointe de la sonde au-delà de centaines d'enregistrements et de balayages de données.
Avec des vitesses plus élevées, un bruit plus faible et une plus grande flexibilité du mode AFM, le contrôleur NanoScope 6 permet aux utilisateurs d'exploiter le plein potentiel de nos systèmes AFM à haute performance: Dimension et MultiMode. Ce contrôleur de dernière génération offre une exactitude, une précision et une polyvalence sans précédent pour les mesures de surface à l'échelle nanométrique quelle que soit l'application.
NanoScope 6 permet aux AFM de Bruker d'être uniques en leur genre :