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Processus de R & D et système de caractérisation des matériaux

Polishing Process Control for Process Development and Materials Testing

Le TriboLab CMP offre une caractérisation bancaire fiable, souple et rentable des processus de polissage des plaquettes, offrant des diagnostics embarqués et une flexibilité dans le type d'échantillon, la taille et le montage pour une meilleure compréhension des applications CMP.

  • Reproduit des conditions de processus de polissage de plaquettes à grande échelle sans temps d'arrêt sur l'équipement de production
  • Fournit une répétabilité et un détail de mesure inégalés
  • Permet d'effectuer des tests sur de petits coupons pour des économies substantielles sur les tests de plaquettes entières

On Off
UMT CP 4 polished sample1
Interior CMP



La norme pour les laboratoires d'essais mécaniques

Profitant de plus de 20 ans d'expertise en caractérisation CMP avec son produit précédent (Bruker CP-4), TriboLab CMP apporte un ensemble complet de fonctionnalités à la plate-forme TriboLab ™ leader dans l'industrie. TriboLab CMP est le seul outil de développement de processus sur le marché qui peut fournir une large gamme de pressions de polissage (0.05 - 50 psi), vitesses (1 à 500 tr / min), frottement, émissions acoustiques et mesures de température de surface pour une caractérisation précise des processus CMP Et les consommables.





Diagnostic à bord pour une meilleure compréhension des procédés de polissage

  • Offre plus de visibilité sur les propriétés de polissage transitoires que tout autre système sur le marché
  • Collecte des données à partir de l'instant où le substrat touche le tampon et pendant tout le test
  • Permet des décisions de développement de processus précoces grâce à des données plus complètes et détaillées

 

À droite: Test des disques de conditionnement sur CMP Tester. Les tests identifient deux groupes de disques. Les tests de coefficient de frottement sont en corrélation avec l'usure du pad.

Testing conditioning discs
CMP pad schematic



Flexibilité dans le type d'échantillon, la taille et les configurations de montage

  • Polisse tout matériau plat, en utilisant pratiquement n'importe quel disque de conditionnement, toute boue et n'importe quel pad
  • Accompagne de petits coupons à travers des gaufres entières de 100 mm avec facilité
  • Accepte plusieurs supports d'échantillons pour la flexibilité

 

À gauche: schéma de CMP Tester pour Conditioner-Pad Tests