FilmTek™ 2000 SEは300mmウエハに対応する自動ステージを備えた卓上型分光エリプソメーターで、薄膜の均一性評価が可能です。先進的な回転補償子設計を採用した2000 SEは、薄膜アプリケーションにおいて比類のない測定性能と速度を実現します。当社のフィルムモデリングソフトウェアと独自の分散式により、データの処理が容易になり、正確で精密なリアルタイムの結果が得られます。
以下の項目を同時に測定可能:
1Å未満から約150µmまでの厚さの半透明フィルムをほぼすべて、高精度で測定できます。
特に学術研究や研究開発の環境では、お客様の独自のニーズを満たすために、柔軟にハードウェアとソフトウェアを変更することができます。
代表的な応用分野には以下が含まれます。
| 膜厚範囲 | 0Å~150µm |
|---|---|
| 膜厚精度 | ±1.0Å(NISTトレーサブル標準酸化膜 100 Å から 1 µm) |
| スペクトル範囲 | 240nm~1700nm(標準240nm~1000nm) |
| 測定スポットサイズ | 3 mm |
| サンプルサイズ | 2 mm - 300 mm(標準150 mm) |
| スペクトル分解能 | 0.3 nm - 2nm |
| 光源 | 重水素ハロゲンランプ(寿命2,000時間) |
| 検出器タイプ | 2048ピクセルソニーリニアCCDアレイ/512ピクセル冷却浜松ホトニクスInGaAs CCDアレイ(NIR) |
| オートフォーカス機能付き自動ステージ | 300 mm(標準200 mm標準) |
| コンピュータ | Windows™ 11 オペレーティングシステム搭載のマルチコアプロセッサ |
| 測定時間 | 1箇所あたり約2秒(例:酸化膜) |
| 膜種 | 膜厚 | 測定パラメータ | 精度(1σ) |
|---|---|---|---|
| Oxide / Si | 0 - 1000 Å | t | 0.03 Å |
| 1000 - 500,000 Å | t | 0.005% | |
| 1000 Å | t , n | 0.2 Å / 0.0001 | |
| 15,000 Å | t , n | 0.5 Å / 0.0001 | |
| 150.000 Å | t , n | 1.5 Å / 0.00001 | |
| Nitride / Si | 200 - 10,000 Å | t | 0.02% |
| 500 - 10,000 Å | t , n | 0.05% / 0.0005 | |
| Photoresist / Si | 200 - 10,000 Å | t | 0.02% |
| 500 - 10,000 Å | t , n | 0.05% / 0.0002 | |
| Polysilicon / Oxide / Si | 200 - 10,000 Å | t Poly , t Oxide | 0.2 Å / 0.1 Å |
| 500 - 10,000 Å | t Poly , t Oxide | 0.2 Å / 0.0005 |
ブルカーはお客様と協力し、実世界のアプリケーション課題を解決します。次世代技術を開発し、お客様が適切なシステムとアクセサリーを選択できるようサポートします。このパートナーシップは、機器販売後もトレーニングや延長サービスを通じて継続します。
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