クリティカルディメンションAFM(CD-AFM)

複雑なクリティカルディメンション特性の正確な3D測定を実現

クリティカルディメンション(CD)測定は、半導体生産などのミクロおよびナノファブリケーション環境でのプロセス管理および開発において重要となる測定です。構造が小型化および複雑化するのに伴い、CD-SEMや散乱計測といった従来のCD測定テクニックでは問題が生じるようになっています。

CD-AFMは非破壊的な高分解能テクニックで、45nmおよび32nm半導体の限界特性を正確に測定することができます。さまざまなライン幅で直線的な測定が可能で、特性のタイプ、密度、材料タイプによる影響を受けません。アンダーカット特性の測定も可能です。また、NISTトレーサブル較正用標準試料により較正し、測定精度を確保することができます。

CD-AFMモードを搭載するブルカーのAFM    システム:

  • Dimension X - 3D
  • InSight 3D AFM
  • InSight 3D AFM 450mm
  • InSight 3D AFM Photomask

推奨されるAFMプローブ:

CD-AFM 1
Multiple semiconductor trenches