Anasys IR3 webslider 2018.065

欠陥解析と材料キャラクタライゼーション

製造プロセスでの故障解析および材料特性評価グループは、プロセス開発を改善し、プロセス関連の問題を解決して組織がコストを削減し、収益を向上させるのに役立つように問題を解決することに焦点を当てています。 nanoIR3-sは、完全なナノスケールFTIR、ナノスケールケミカルイメージングおよび材料特性評価プラットフォームを提供します。AFMベースの材料特性マッピングに加え、相互に補完するナノスケールIR技術、AFM-IRおよび散乱SNOMを組み合わせた評価が可能です。 nanoIRプラットフォームは生産性と信頼性に優れており、生産性を高めることができます。下記アプリケーションが含まれます:

  • ナノ有機汚染物質
  • LowK誘電体
  • 半導体材料
  • データ記憶媒体とスライド

有機ナノ汚染物質は、現在のキャラクタリゼーション技術では製薬が多く、半導体およびデータストレージ企業にとって重大な欠陥問題です。ここでは、このような欠陥やその他の半導体材料の測定へのnanoIR3の応用について説明します。 nanoIR3システムは、10 nmまでの空間分解能でIRスペクトルを取得する科学的ブレークスルー技術に基づいており、研究者はナノスケールの物質の化学的フィンガープリントを取得することができます。

Anasys Instrumentsの特許取得済みAFM-IR™技術を使用して生成されたスペクトルは、従来のFTIRスペクトルと直接相関しているため、従来蓄積されたFTIRライブラリを活用できます。化学分析に加えて、nanoIR3は、ナノスケールの空間分解能で、相補的な機械的、電気的、熱的、および構造的特性情報を提供します。

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