-
製品情報
- 質量分析と分離
- MALDI-TOF および TOF/TOF MS
- MALDI Biotyperシステム
- O-TOF 質量分析用機器とソフトウェア
- ESI IT MS
- ESI トリプル四重極MS
- LC/MS用UHPLCおよびnanoLC
- GC トリプル四重極MS
- MRMS
- HDXソリューション
- Toxtyper
- TargetScreener HR
- ソフトウェア
- 赤外・近赤外・ラマンスペクトロスコピー
- 顕微FT-IR, FTラマン顕微
- FT-NIR
- ルーチン分析用FT-IR
- ハイエンドリサーチ用FT-IR
- プロセス用FT-NIR
- 乳製品分析装置
- ガス分析
- Remote Sensing
- Terahertz
- ラマン
- OPUS - 分光法用ソフトウェア
- X線回折・元素分析
- 蛍光X線
- X線回折
- 単結晶X線構造解析
- 小角X線散乱
- ハンドヘルド型蛍光X線分析
- LIBS
- マイクロXRFとTXRF
- X線評価装置
- EDS, WDS, EBSD, SEM Micro-XRF
- 発光分光分析
- CS/ONH分析
- ナノ表面計測
- AFM 原子間力顕微鏡
- 3次元白色干渉型顕微鏡
- 触針式プロファイリングシステム
- ハイジトロンナノインデンテーションシステム
- トライボロジー評価機 | 摩擦摩耗試験機
- AFM-IR 赤外分光分析システム
- Alicona Dimensional Metrology Systems
- Fluorescence Microscopes
- Ultima Multiphoton Microscopy
- Opterra Confocal Microscopy
- Vutara Super-Resolution Microscopy
- Luxendo Light-Sheet Microscopy
- 半導体プロセス用測定装置
- BSEMI – New Page
- Applications
- 大型自動原子間力顕微鏡
- 自動化されたX線ウェーハー検査
- 化合物半導体用測定装置
- 線欠陥検査
- Process Equipment
- Photomask Repair
- Cryogenic CO2 Cleaning
- Optical Metrology
- 表面プラズモン共鳴
- Sierra SPR-24 Pro
- Sierra SPR-32
- 分野
- 技術サポート
- ニュース
- イベント
- 企業情報