Semiconductor Metrology JVX7300HR


JVX7300HR

Bruker JVX7300HRは、14nm以上のエピ加工を監視する最先端のX線計測プラットフォームです。特許取得済みのFastHRXRDおよびFastXRRチャネルを搭載しており、エピフィルムのモニタリングにおいて優れた性能を発揮します


On Off
JVX7300 tool image v1a
JVX7300 HR OCD pad image v1

 

 

JVX7300HRは、SiGeSiCおよびSiP膜のモニタリング用に業界で広く使用されています。 HRXRDおよびXRRチャンネルを使用することにより、FD-SOIおよびOCDパッド上であっても、単層または多層エピフィルムの組成、緩和、歪みおよび厚さを測定することができま

 

最近の測定および解析能力の進歩により、OCDパッドで測定されたSi歪みの測定が可能なりました。 OCDパッドは、テストパッドサイズに等しい長さの一連の平行線を有し、SiCDに印刷され、SiGeS / Dサイズで印刷されます。これは、チャネル歪みを測定するデータにデバイス構造に起因する代表的な構造を形成します。

JVX7300 HR SiGe Si v1
JVX7300 HR layer stack graph v1

 

 

FastXRRを使用して、多層膜内の各超薄層の個々の厚さと密度を測定できます。これは、High-K /メタルゲートプロセスに使用することができ、単一の測定で各レイヤをカバーするパラメータが得られます